公开(公告)号：CN100538927C

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：CN200510082194.5

申请日：2005-07-01

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 锻冶利奈 ,  上岛聪史 ,  青木进 ,  竹尾建治 ,  佐藤庆一

IPC: H01F17/00 ,  H01F27/28 ,  H01F37/00 ,  H01F41/02

CPC classification number: H01L28/10 ,  H01F17/0006 ,  H01F27/34 ,  H01F41/041 ,  H01F2017/0093

Abstract: 提供一种能够通过尽可能地降低电容量来提高差分传送特性的线圈构造体。构成共态扼流线圈，使构成薄膜线圈(30)的两个线圈图案(31、32)的截面都具有左右非对称的倒梯形。根据两个线圈图案(31、32)的截面都具有左右非对称的倒梯形的构造特征，将与电容量有关的两个线圈图案(31、32)之间的对置面积尽可能地减小，所以能够尽可能地减小薄膜线圈(30)的电容量。

公开(公告)号：CN1272770C

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN200410064089.4

申请日：2004-05-21

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 竹尾建治 ,  宫本宏之

IPC: G11B5/31

CPC classification number: G11B5/6005

Abstract: 在绝缘薄膜上形成一电镀底基层。在电镀底基层上形成抗反射膜。在抗反射膜上形成光刻胶。曝光和显影光刻胶和抗反射膜，以便形成由其制造的抗蚀性组织。在由抗蚀性组织包围的内部图案中形成第二磁性层。抗反射膜由经过曝光对于显影剂可溶解的物质组成。

公开(公告)号：CN1716467A

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN200510082194.5

申请日：2005-07-01

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 锻冶利奈 ,  上岛聪史 ,  青木进 ,  竹尾建治 ,  佐藤庆一

IPC: H01F17/00 ,  H01F27/28 ,  H01F37/00 ,  H01F41/02

CPC classification number: H01L28/10 ,  H01F17/0006 ,  H01F27/34 ,  H01F41/041 ,  H01F2017/0093

Abstract: 提供一种能够通过尽可能地降低电容量来提高差分传送特性的线圈构造体。构成共态扼流线圈，使构成薄膜线圈(30)的两个线圈图案(31、32)的截面都具有左右非对称的倒梯形。根据两个线圈图案(31、32)的截面都具有左右非对称的倒梯形的构造特征，将与电容量有关的两个线圈图案(31、32)之间的对置面积尽可能地减小，所以能够尽可能地减小薄膜线圈(30)的电容量。

公开(公告)号：CN1573938A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410064089.4

申请日：2004-05-21

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 竹尾建治 ,  宫本宏之

IPC: G11B5/31

CPC classification number: G11B5/6005

Abstract: 在绝缘薄膜上形成一电镀底基层。在电镀底基层上形成抗反射膜。在抗反射膜62上形成光刻胶光刻胶。曝光和显影光刻胶和抗反射膜，以便形成由其制造的抗蚀性阻织。在由抗蚀性组织包围的内部图案中形成第二磁性层。抗反射膜由经过曝光对于显影剂可溶解的物质组成。