噪声抑制薄片
    4.
    发明公开
    噪声抑制薄片 审中-实审

    公开(公告)号:CN113543613A

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202010310658.8

    申请日:2020-04-20

    Abstract: 在噪声抑制薄片中,呈箔状的金属磁性体层和非磁性金属体层经由粘着材料层而贴合。通过将这样的噪声抑制薄片安装于电子部件等,可以吸收、抑制从电子部件中的电路等产生的噪声。在噪声抑制薄片中,噪声被金属磁性体层吸收。由于未被金属磁性体层吸收而透过的噪声可以被非磁性金属体层反射并再次被金属磁性体层吸收,因此噪声抑制薄片可以更有效地抑制噪声。

    噪声抑制片
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112837880A

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN202011319586.X

    申请日:2020-11-23

    Abstract: 本发明提供一种噪声抑制片,其包括金属磁性体层,该金属磁性体层由含有78~84wt%的Ni的FeNi合金构成,且添加了2~8wt%的Si,能够实现高的磁屏蔽特性。在噪声抑制片中,特别是以金属磁性体层实现70~115μΩ·cm的高的电阻率,即使在1MHz~10MHz左右的高频段也维持高的导磁率,介电常数的频率依赖性变低。

Patent Agency Ranking