公开(公告)号：CN101541674A

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200780043772.1

申请日：2007-12-10

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 金相澔 ,  权元钟 ,  李贤镐 ,  陈善美 ,  金载洪 ,  孙权男 ,  石智元 ,  崔丙熹

IPC: C01B31/02

CPC classification number: C04B38/0032 ,  B01J21/18 ,  B01J35/1057 ,  B01J35/1061 ,  B01J35/1066 ,  B01J37/0045 ,  B01J37/084 ,  C01B32/00 ,  C04B2111/0081 ,  C04B2111/00836 ,  C04B2111/00853 ,  Y10S977/775 ,  Y10S977/896 ,  C04B35/52 ,  C04B38/0054 ,  C04B38/04

Abstract: 本发明公开了一种制备多孔炭结构的方法，该方法包括如下步骤：(a)混合炭前驱体、热解模板和溶剂以制备喷雾溶液，该模板或者在炭前驱体的碳化温度下热解或者在炭前驱体碳化后通过后处理除去从而形成孔；以及(b)对所述喷雾溶液进行喷雾热解或者进行喷雾干燥再喷雾热解，从而形成碳化的炭结构，然后从炭结构中除去模板。通过控制模板的种类和浓度，根据公开方法制备的中孔球形炭可以具有大比表面积和大孔体积，并因此能被用于广泛的用途，包括催化剂、吸附剂、电极材料、用于分离和纯化的材料以及用于存储氢和药物的材料。

公开(公告)号：CN102149629B

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN200980135844.4

申请日：2009-09-10

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 权元钟 ,  金载洪 ,  陈善美 ,  李常旭 ,  林泳秀

IPC: B82B3/00

CPC classification number: H01B1/22 ,  B22F1/0018 ,  B22F9/24 ,  B22F2001/0033 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C09D11/52 ,  H01B1/24 ,  H01L31/022433 ,  H05K1/092 ,  H05K1/097 ,  H05K2201/026 ,  Y02E10/50 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/81 ,  Y10S977/895 ,  Y10S977/90 ,  Y10T428/12229

Abstract: 本发明涉及一种金属纳米带及其制造方法，以及一种传导墨水组合物和包含该传导墨水组合物的传导膜。所述金属纳米带无需施加高温和高压便可容易地在常温和常压下制造，且如果在低温下进行热处理或干燥工序前将包含所述金属纳米带的传导墨水组合物印刷在衬底上，则所述金属纳米带还可用于形成表现出优异传导性的传导膜或传导图案。因此，所述金属纳米带和传导墨水组合物可以非常适宜地用于在需要低温加热的环境下形成半导体器件、显示器、太阳能电池的传导图案或传导膜。所述金属纳米带的长度为500nm或大于500nm，长/宽比为10或大于10，且宽/厚比为3或大于3。

公开(公告)号：CN101512422A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780032841.9

申请日：2007-09-04

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 申铉雨 ,  张基硕 ,  朴真荣 ,  崔珉浩 ,  金台洙 ,  李守熙 ,  金载洪 ,  金芙敬

IPC: G02F1/15

CPC classification number: G02F1/153

Abstract: 一种形成电致变色层图形的方法，该方法包括：在透明基板上形成透明电极层和光刻胶层；通过激光干涉光刻法形成光刻胶图形；和通过在基板的上表面上沉积电致变色层而经过由光刻胶图形限定的开口在透明电极上沉积电致变色层图形，然后除去光刻胶图形。在透明层与光刻胶层之间可以进一步形成绝缘层。在此，可在采用光刻胶图形作为刻蚀掩膜形成绝缘层图形后形成电致变色层。在这种情况下，在由绝缘层图形限定的开口内形成电致变色层图形。因此，增加了电致变色层图形与离子导电层之间的接触面积从而确保快的响应速度。

公开(公告)号：CN102149629A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135844.4

申请日：2009-09-10

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 权元钟 ,  金载洪 ,  陈善美 ,  李常旭 ,  林泳秀

IPC: B82B3/00

CPC classification number: H01B1/22 ,  B22F1/0018 ,  B22F9/24 ,  B22F2001/0033 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C09D11/52 ,  H01B1/24 ,  H01L31/022433 ,  H05K1/092 ,  H05K1/097 ,  H05K2201/026 ,  Y02E10/50 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/81 ,  Y10S977/895 ,  Y10S977/90 ,  Y10T428/12229

Abstract: 本发明涉及一种金属纳米带及其制造方法，以及一种传导墨水组合物和包含该传导墨水组合物的传导膜。所述金属纳米带无需施加高温和高压便可容易地在常温和常压下制造，且如果在低温下进行热处理或干燥工序前将包含所述金属纳米带的传导墨水组合物印刷在衬底上，则所述金属纳米带还可用于形成表现出优异传导性的传导膜或传导图案。因此，所述金属纳米带和传导墨水组合物可以非常适宜地用于在需要低温加热的环境下形成半导体器件、显示器、太阳能电池的传导图案或传导膜。所述金属纳米带的长度为500nm或大于500nm，长/宽比为10或大于10，且宽/厚比为3或大于3。

公开(公告)号：CN101512422B

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200780032841.9

申请日：2007-09-04

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 申铉雨 ,  张基硕 ,  朴真荣 ,  崔珉浩 ,  金台洙 ,  李守熙 ,  金载洪 ,  金芙敬

IPC: G02F1/15

CPC classification number: G02F1/153

Abstract: 一种形成电致变色层图形的方法，该方法包括：在透明基板上形成透明电极层和光刻胶层；通过激光干涉光刻法形成光刻胶图形；和通过在基板的上表面上沉积电致变色层而经过由光刻胶图形限定的开口在透明电极上沉积电致变色层图形，然后除去光刻胶图形。在透明层与光刻胶层之间可以进一步形成绝缘层。在此，可在采用光刻胶图形作为刻蚀掩膜形成绝缘层图形后形成电致变色层。在这种情况下，在由绝缘层图形限定的开口内形成电致变色层图形。因此，增加了电致变色层图形与离子导电层之间的接触面积从而确保快的响应速度。