公开(公告)号：CN101512422B

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200780032841.9

申请日：2007-09-04

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 申铉雨 ,  张基硕 ,  朴真荣 ,  崔珉浩 ,  金台洙 ,  李守熙 ,  金载洪 ,  金芙敬

IPC: G02F1/15

CPC classification number: G02F1/153

Abstract: 一种形成电致变色层图形的方法，该方法包括：在透明基板上形成透明电极层和光刻胶层；通过激光干涉光刻法形成光刻胶图形；和通过在基板的上表面上沉积电致变色层而经过由光刻胶图形限定的开口在透明电极上沉积电致变色层图形，然后除去光刻胶图形。在透明层与光刻胶层之间可以进一步形成绝缘层。在此，可在采用光刻胶图形作为刻蚀掩膜形成绝缘层图形后形成电致变色层。在这种情况下，在由绝缘层图形限定的开口内形成电致变色层图形。因此，增加了电致变色层图形与离子导电层之间的接触面积从而确保快的响应速度。

公开(公告)号：CN101512422A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780032841.9

申请日：2007-09-04

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 申铉雨 ,  张基硕 ,  朴真荣 ,  崔珉浩 ,  金台洙 ,  李守熙 ,  金载洪 ,  金芙敬

IPC: G02F1/15

CPC classification number: G02F1/153

Abstract: 一种形成电致变色层图形的方法，该方法包括：在透明基板上形成透明电极层和光刻胶层；通过激光干涉光刻法形成光刻胶图形；和通过在基板的上表面上沉积电致变色层而经过由光刻胶图形限定的开口在透明电极上沉积电致变色层图形，然后除去光刻胶图形。在透明层与光刻胶层之间可以进一步形成绝缘层。在此，可在采用光刻胶图形作为刻蚀掩膜形成绝缘层图形后形成电致变色层。在这种情况下，在由绝缘层图形限定的开口内形成电致变色层图形。因此，增加了电致变色层图形与离子导电层之间的接触面积从而确保快的响应速度。