公开(公告)号：CN101416109A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200780011862.2

申请日：2007-03-27

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 韩尚澈 ,  吴承泰 ,  金德柱 ,  马蒂亚斯·黑尼克

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及纳米图案的形成方法，并且，更具体而言，涉及在大面积上连续形成纳米图案的方法和在辊形基板上形成纳米图案的方法以及具有使用该方法形成的图案的基板。使用相对移动大面积样品和干涉光光源的方法以及通过干涉光光源和辊形基板的相对轴向运动同时旋转辊形基板来进行曝光的方法来避免在相关领域中发生的问题，例如在形成纳米图案过程中装置所需的大空间、激光的有限输出和图案中有限的自由度。

公开(公告)号：CN101146859A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200680008921.6

申请日：2006-11-22

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 宋荣一 ,  朴麟奎 ,  南允善 ,  金德柱

IPC: C08L23/06

Abstract: 本发明涉及一种具有显著的抗渗出性和绝缘性的交联聚乙烯组合物。本发明的组合物特征在于，其包含(A)100重量份的聚乙烯；(B)0.2～0.6重量份的液体抗氧化剂和受阻酚或硫代酸酯抗氧化剂的混合物；(C)0.2～0.9重量份的分子量为5,000～70,000的聚乙二醇；和(D)1～4重量份的交联剂。

公开(公告)号：CN101116018A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200680004176.8

申请日：2006-06-13

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 金德柱 ,  韩尚澈 ,  金钟勋

IPC: G02B5/30

CPC classification number: G02B5/3058

Abstract: 本发明公开了一种使导电层图形化的方法，一种使用该方法制备偏振片的方法和使用所述制备偏振片的方法制备的偏振片，以及具有该偏振片的显示器件。所述使导电层图形化的方法包括(a)使树脂层图形化以形成凹槽和突起，以及(b)在树脂层上涂敷导电填充材料，从而利用图形化的树脂层上的凹槽和突起的立体形状形成图形。

公开(公告)号：CN101146859B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200680008921.6

申请日：2006-11-22

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 宋荣一 ,  朴麟奎 ,  南允善 ,  金德柱

IPC: C08L23/06

Abstract: 本发明涉及一种具有显著的抗渗出性和绝缘性的交联聚乙烯组合物。本发明的组合物特征在于，其包含(A)100重量份的聚乙烯；(B)0.2～0.6重量份的液体抗氧化剂和受阻酚或硫代酸酯抗氧化剂的混合物；(C)0.2～0.9重量份的分子量为5,000～70,000的聚乙二醇；和(D)1～4重量份的交联剂。

公开(公告)号：CN100541243C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200680004176.8

申请日：2006-06-13

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 金德柱 ,  韩尚澈 ,  金钟勋

IPC: G02B5/30

CPC classification number: G02B5/3058

Abstract: 本发明公开了一种使导电层图形化的方法，一种使用该方法制备偏振片的方法和使用所述制备偏振片的方法制备的偏振片，以及具有该偏振片的显示器件。所述使导电层图形化的方法包括(a)使树脂层图形化以形成凹槽和突起，以及(b)在树脂层上涂敷导电填充材料，从而利用图形化的树脂层上的凹槽和突起的立体形状形成图形。