公开(公告)号：CN101286446B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200810092455.5

申请日：2008-04-11

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一

IPC: H01L21/00

Abstract: 本发明公开一种化学药品供给装置，包括：用于灌入药液的容器罐；缓冲器，其下部设有用于接收所述容器罐内的药液后向半导体装备输送的排出阀，在上部形成用于向外部排出包含于所述药液里的气泡的气泡排气阀；残量测定装置，以用于测定所述容器罐内药液的残量；及体积可变装置，以用于当利用所述残量测定装置进行的测定结果为容器罐内的药液残量在基准值以下时，使缓冲器内药液的收容空间收缩及膨胀，从而吸入容器罐内的药液。并且，如果测定的容器罐内药液的残量在基准值以下，则从缓冲器侧形成低速真空吸入动作，因此可降低容器罐内的药液的残量而节省材料费用。

公开(公告)号：CN1892202B

公开(公告)日：2010-05-12

申请号：CN200610094283.6

申请日：2006-06-28

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一 ,  卢智晟 ,  权晟

IPC: G01N21/892 ,  G01N21/95

Abstract: 本发明提供一种表面检测装置及利用该检测装置的表面检测方法。该表面检测装置，包含：与检测对象的检测表面隔离而设置的移送杆；具有分别结合于移送杆两端的发光部和收光部的光传感器，以用于在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与检测对象的检测表面平行的方向收发光线；驱动部，以用于朝着与检测对象的检测表面平行但与光传感器的发光方向不同的方向移送移送杆；位置调节器，以用于调节检测对象的检测表面与光传感器发光路径之间的距离。由此，可以正确地检测出基板上表面或底面的杂质，而且因结构变得简单而可以降低生产成本。

公开(公告)号：CN101362123B

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN200810131348.9

申请日：2008-08-06

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一

IPC: B05B15/02

Abstract: 本发明公开一种喷嘴清洗装置及清洗方法。所述喷嘴清洗装置包含：中间隔着狭缝喷嘴而相面对布置的一对清洗块，该清洗块具有对应于狭缝喷嘴宽度方向尺寸的长度；移动部件，以用于使相面对布置的所述一对清洗块朝相互接触或隔离的方向进退移动。本发明不仅对向基板上喷射药液的狭缝喷嘴具有清洗功能，而且同时起到在长期不使用狭缝喷嘴时防止狭缝喷嘴的喷口露在外部的密封部件的作用。

公开(公告)号：CN101288865B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200810092456.X

申请日：2008-04-11

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一

IPC: B05C11/10 ,  B05B9/04

Abstract: 本发明公开一种狭缝式涂布机的涂布液供应装置，其包含：活塞；气缸，其形成插入活塞并使活塞在水平方向上进行往复运动的活塞滑行部，并形成在所述活塞滑行部末端朝上下方向扩张空间的扩管部。本发明中在狭缝喷嘴上部沿水平方向设置用于供应涂布液的泵，缩短了涂布液的供应路径，在解决了输出延迟引发的问题的同时可以实现泵容量的大型化，具有提高狭缝涂布机性能的效果。

公开(公告)号：CN101078882B

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN200710107441.1

申请日：2007-05-11

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一

IPC: G03F7/16 ,  G02F1/1333

CPC classification number: B05C11/00 ,  B05C5/0254

Abstract: 本发明涉及测量基板涂敷装置(Substrate Coating Apparatus)的狭缝喷嘴(Slit Nozzle)所喷出的光刻胶的横向喷射均匀度的装置及方法。依据本发明所提供的狭缝喷嘴的横向喷射均匀度测量装置包含具有与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的检测面的多个流体压力测量单元，所述流体压力测量单元沿所述狭缝喷嘴的横向并排。

公开(公告)号：CN101362123A

公开(公告)日：2009-02-11

申请号：CN200810131348.9

申请日：2008-08-06

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一

IPC: B05B15/02

Abstract: 本发明公开一种喷嘴清洗装置及清洗方法。所述喷嘴清洗装置包含：中间隔着狭缝喷嘴而相面对布置的一对清洗块，该清洗块具有对应于狭缝喷嘴宽度方向尺寸的长度；移动部件，以用于使相面对布置的所述一对清洗块朝相互接触或隔离的方向进退移动。本发明不仅对向基板上喷射药液的狭缝喷嘴具有清洗功能，而且同时起到在长期不使用狭缝喷嘴时防止狭缝喷嘴的喷口露在外部的密封部件的作用。

公开(公告)号：CN101078881B

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN200710107439.4

申请日：2007-05-11

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一

IPC: G03F7/16 ,  G02F1/1333

CPC classification number: B05C5/0254 ,  B05C11/00 ,  B05C11/1005

Abstract: 本发明涉及用于测量基板涂敷装置(Substrate Coating Apparatus)的狭缝喷嘴(Slit Nozzle)所喷出的光刻胶的喷射均匀度的装置及方法。本发明所提供的狭缝喷嘴的喷射均匀度测量装置包含：沿所述狭缝喷嘴的横向按照一定区间分配所述狭缝喷嘴所喷出的喷射液体的喷射液体分配器；测量所述喷射液体分配器所分配的各喷射液体量的喷射液体测量单元。

公开(公告)号：CN101286446A

公开(公告)日：2008-10-15

申请号：CN200810092455.5

申请日：2008-04-11

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一

IPC: H01L21/00

Abstract: 本发明公开一种化学药品供给装置，包括：用于灌入药液的容器罐；缓冲器，其下部设有用于接收所述容器罐内的药液后向半导体装备输送的排出阀，在上部形成用于向外部排出包含于所述药液里的气泡的气泡排气阀；残量测定装置，以用于测定所述容器罐内药液的残量；及体积可变装置，以用于当利用所述残量测定装置进行的测定结果为容器罐内的药液残量在基准值以下时，使缓冲器内药液的收容空间收缩及膨胀，从而吸入容器罐内的药液。并且，如果测定的容器罐内药液的残量在基准值以下，则从缓冲器侧形成低速真空吸入动作，因此可降低容器罐内的药液的残量而节省材料费用。

公开(公告)号：CN101078882A

公开(公告)日：2007-11-28

申请号：CN200710107441.1

申请日：2007-05-11

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一

IPC: G03F7/16 ,  G02F1/1333

CPC classification number: B05C11/00 ,  B05C5/0254

Abstract: 本发明涉及测量基板涂敷装置(Substrate Coating Apparatus)的狭缝喷嘴(Slit Nozzle)所喷出的光刻胶的横向喷射均匀度的装置及方法。依据本发明所提供的狭缝喷嘴的横向喷射均匀度测量装置包含具有与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的检测面的多个流体压力测量单元，所述流体压力测量单元沿所述狭缝喷嘴的横向并排。

公开(公告)号：CN1892202A

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：CN200610094283.6

申请日：2006-06-28

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 赵康一 ,  卢智晟 ,  权晟

IPC: G01N21/892 ,  G01N21/95

Abstract: 本发明提供一种表面检测装置及利用该检测装置的表面检测方法。该表面检测装置，包含：与检测对象的检测表面隔离而设置的移送杆；具有分别结合于移送杆两端的发光部和收光部的光传感器，以用于在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与检测对象的检测表面平行的方向收发光线；驱动部，以用于朝着与检测对象的检测表面平行但与光传感器的发光方向不同的方向移送移送杆；位置调节器，以用于调节检测对象的检测表面与光传感器发光路径之间的距离。由此，可以正确地检测出基板上表面或底面的杂质，而且因结构变得简单而可以降低生产成本。