铜箔复合体
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102985252A

    公开(公告)日:2013-03-20

    申请号:CN201180034868.8

    申请日:2011-06-16

    Inventor: 冠和树

    Abstract: 本发明提供即使进行与加压加工等这样的单轴弯曲不同的苛刻(复杂)的变形,也可以防止铜箔断裂且加工性优异的铜箔复合体。铜箔复合体,其叠层有铜箔和树脂层,且在将铜箔的厚度设为t2(mm)、拉伸应变4%时的铜箔的应力设为f2(MPa),树脂层的厚度设为t3(mm)、拉伸应变4%时的树脂层的应力设为f3(MPa)时,满足式1:(f3×t3)/(f2×t2)≥1,且,在将铜箔与树脂层的180°剥离粘接强度设为f1(N/mm)、铜箔复合体的拉伸应变30%时的强度设为F(MPa)、铜箔复合体的厚度设为T(mm)时,满足式2:1≤33f1/(F×T)。

    轧制铜箔
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104511479A

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201410667683.6

    申请日:2014-09-30

    CPC classification number: B21B1/40 C22F1/08 H05K1/09

    Abstract: 本发明涉及轧制铜箔、使用其的覆铜层叠板、印刷布线板、电子设备、电路连接构件的制造方法和电路连接构件。本发明提供一种蚀刻性、弯曲性、与树脂的密合性、通过蚀刻除去铜箔之后的树脂的透明性都优秀的轧制铜箔、覆铜层叠板以及印刷布线板。该轧制铜箔包括99.9%以上的铜,在单面或两面形成镀覆层,沿着轧制铜箔的轧制直角方向镀覆层表面的偏度Rsk为-0.35~0.53,分别使所述轧制铜箔的所述镀覆层侧贴合于聚酰亚胺树脂膜的两面之后通过蚀刻除去轧制铜箔,隔着聚酰亚胺树脂膜用CCD摄像机对印刷物进行摄影,此时,由Sv=(ΔB×0.1)/(t1-t2)所定义的Sv成为3.0以上。

    滚轧铜箔
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103826765B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201280047253.3

    申请日:2012-08-28

    CPC classification number: B21B1/40 B21B2003/005 C22C9/00 C22F1/08

    Abstract: 提供一种滚轧铜箔,其使铜箔表面适度地变粗糙以提高处理性,而且弯曲性优秀,并且表面蚀刻特性良好。为一种滚轧铜箔,其中,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)为100以上且300以下,在以200℃加热30分钟并调质为再结晶组织的状态下,滚轧面的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I)相对于微粉末铜的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I0)为20≤I/I0≤40,在于铜箔表面处沿滚轧平行方向长度为175μm,且沿滚轧直角方向分别间隔50μm以上的3条直线上,与油坑的最大深度相当的各直线的厚度方向的最大高度与最小高度之差的平均值(d)与所述铜箔的厚度(t)的比率(d/t)为0.1以下,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)与沿滚轧直角方向测定的表面的60度光泽度(G60TD)的比率(G60RD/G60TD)小于0.8。

    电磁波屏蔽用复合体
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102812792B

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:CN201080065918.4

    申请日:2010-05-27

    CPC classification number: H05K9/0088 H05K9/0083

    Abstract: 本发明提供一种针对弯折或反复弯曲等变形防止铜箔开裂,屏蔽性能不易随着时间的推移而劣化的电磁波屏蔽用复合体。该电磁波屏蔽用复合体中,在厚5~15μm的铜箔的单面被覆有附着量为90~5000μg/dm2的Ni,在该Ni被覆的表面形成有以Cr质量计为5~100μg/dm2的Cr氧化物层,在铜箔的反面层叠有树脂层。

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