公开(公告)号：CN114341743A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202080061642.6

申请日：2020-09-15

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 野坂直矢 ,  阿部翼 ,  土桥将人 ,  高梨和宪

IPC: G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  C07C69/616 ,  C07C13/62 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明的目的在于提供一种可形成耐蚀刻性、耐热性及埋入性优异的膜的组合物、抗蚀剂底层膜、抗蚀剂底层膜的形成方法、经图案化的基板的制造方法及化合物。本发明为一种组合物，其含有具有芳香族烃环结构及下述式(1)所表示的部分结构的化合物以及溶媒，所述芳香族烃环结构的碳数为25以上。

公开(公告)号：CN116209715A

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202180065028.1

申请日：2021-09-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 高梨和宪 ,  宫内裕之 ,  奥村奈央 ,  河津智晴 ,  出井慧

IPC: C08L25/00

Abstract: 本发明提供一种涂敷性优异的保护膜形成用组合物、保护膜、保护膜的形成方法、及经图案化的基板的制造方法。一种保护膜形成用组合物，用于仅在基板的周缘部形成保护膜，所述保护膜形成用组合物含有具有芳香环的化合物与溶媒，所述溶媒包含标准沸点为156℃以上且未满300℃的第一溶媒。