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公开(公告)号：CN116209715A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202180065028.1
申请日：2021-09-29
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 高梨和宪 , 宫内裕之 , 奥村奈央 , 河津智晴 , 出井慧
IPC: C08L25/00
Abstract: 本发明提供一种涂敷性优异的保护膜形成用组合物、保护膜、保护膜的形成方法、及经图案化的基板的制造方法。一种保护膜形成用组合物，用于仅在基板的周缘部形成保护膜，所述保护膜形成用组合物含有具有芳香环的化合物与溶媒，所述溶媒包含标准沸点为156℃以上且未满300℃的第一溶媒。
