公开(公告)号：CN101611043B

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN200880004682.6

申请日：2008-02-12

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川恭志 ,  野边洋平 ,  加藤仁史 ,  石附健二 ,  小久保辉一

IPC: C07F7/18 ,  C09D5/25 ,  C09D183/06 ,  C23C16/42 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01B3/46 ,  C07F7/1804 ,  C08G77/50 ,  C09D4/00 ,  C23C16/401 ,  C23C16/56 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31633 ,  C08G77/00 ,  C08G77/04

Abstract: 本发明提供一种含硅膜形成用材料，含有下述通式(1)所示的至少1种有机硅烷化合物。(式中，R1～R6相同或不同，表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、乙烯基、苯基、卤原子、羟基、乙酰氧基、苯氧基或烷氧基，并且R1～R6中的至少一个是卤原子、羟基、乙酰氧基、苯氧基或烷氧基，n表示0～3的整数)。

公开(公告)号：CN101611043A

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：CN200880004682.6

申请日：2008-02-12

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川恭志 ,  野边洋平 ,  加藤仁史 ,  石附健二 ,  小久保辉一

IPC: C07F7/18 ,  C09D5/25 ,  C09D183/06 ,  C23C16/42 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01B3/46 ,  C07F7/1804 ,  C08G77/50 ,  C09D4/00 ,  C23C16/401 ,  C23C16/56 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31633 ,  C08G77/00 ,  C08G77/04

Abstract: 本发明提供一种含硅膜形成用材料，含有通式(1)所示的至少1种有机硅烷化合物。(式中，R1～R6相同或不同，表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、乙烯基、苯基、卤原子、羟基、乙酰氧基、苯氧基或烷氧基，并且R1～R6中的至少一个是卤原子、羟基、乙酰氧基、苯氧基或烷氧基，n表示0～3的整数。)