公开(公告)号：CN108728253A

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201810183847.6

申请日：2018-03-06

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 亀井康孝 ,  石井寛之 ,  水野光

IPC: C11D1/37 ,  C11D3/04 ,  C11D3/10 ,  C11D3/37 ,  C11D3/33 ,  C11D3/30 ,  C11D3/60 ,  B08B3/08

CPC classification number: C11D1/37 ,  B08B3/08 ,  C11D1/10 ,  C11D1/22 ,  C11D3/00 ,  C11D3/044 ,  C11D3/046 ,  C11D3/10 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D3/3765

Abstract: 本发明提供一种清洗用组合物及使用其的被处理体的处理方法，所述清洗用组合物在为了对被处理体进行加工等处理而经由固定层将被处理体固定于支撑体的方法中，可有效地去除自被处理体剥离支撑体后的被处理体的表面的来源于固定层的残渣等污染。本发明的清洗用组合物：含有钾及钠，且用以对被处理体的自支撑体剥离的面进行清洗，所述清洗用组合物中，当将所述钾的含量设为MK ppm、将所述钠的含量设为MNa ppm时，MK/MNa＝5×103～1×105。