公开(公告)号：CN101313246A

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200680043960.X

申请日：2006-11-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 矢田勇二 ,  永井智树

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含在分辨率性能、热稳定性和储存稳定性方面极好的辐射敏感产酸剂，该组合物抑制由驻波引起的线宽波动和图案外形劣化，并提供在纳米边缘粗糙度和LEF方面改善的抗蚀剂图案。所述辐射敏感树脂组合物的特征在于：(A)包含锍盐化合物和磺酰亚胺化合物的辐射敏感产酸剂，所述锍盐化合物例如2，4－二氟苯磺酸2，4，6－三甲苯基二苯基锍、4－三氟甲基苯磺酸2，4，6－三甲苯基二苯基锍等。优选的是所述组合物还包含(B)树脂，例如4－羟基苯乙烯/4－叔丁氧基苯乙烯共聚物、4－羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯等。

公开(公告)号：CN101313246B

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN200680043960.X

申请日：2006-11-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 矢田勇二 ,  永井智树

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含在分辨率性能、热稳定性和储存稳定性方面极好的辐射敏感产酸剂，该组合物抑制由驻波引起的线宽波动和图案外形劣化，并提供在纳米边缘粗糙度和LEF方面改善的抗蚀剂图案。所述辐射敏感树脂组合物的特征在于：(A)包含锍盐化合物和磺酰亚胺化合物的辐射敏感产酸剂，所述锍盐化合物例如2，4-二氟苯磺酸2，4，6-三甲苯基二苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸2，4，6-三甲苯基二苯基锍等。优选的是所述组合物还包含(B)树脂，例如4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯等。

公开(公告)号：CN102187282A

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200980141606.4

申请日：2009-10-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 矢田勇二 ,  庵野祐亮 ,  柿泽友洋 ,  堀雅史 ,  三田伦广 ,  若松刚史

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂图案涂布剂，其在包括：使用第一放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀剂图案的工序(1)、用抗蚀剂图案涂布剂对上述第一抗蚀剂图案进行处理的工序(2)和使用第二放射线敏感性树脂组合物，在用抗蚀剂图案涂布剂处理过的基板上形成第二抗蚀剂图案的工序(3)的抗蚀剂图案形成方法的工序(2)中使用，含有具有羟基的树脂、和包含30质量％以上的碳原子数3～10的支链烷基醇的溶剂。