制造抗反射涂层基片的方法

    公开(公告)号:CN1484045A

    公开(公告)日:2004-03-24

    申请号:CN03127460.9

    申请日:2003-08-07

    CPC classification number: G02B1/115 G02B1/116

    Abstract: 本发明涉及制造抗反射涂层基片,其包括透明基片(1)和在透明基片上形成的抗反射膜,抗反射膜由多层膜制成,所述多层膜具有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层:中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)。中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成,高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成。低折射指数层由含有硅和氧的材料制成。抗反射膜用一种在线溅射仪器,通过相继层积这些层而形成。

    眼镜镜片
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107015297A

    公开(公告)日:2017-08-04

    申请号:CN201611137703.4

    申请日:2013-09-30

    Abstract: 本发明的一个实施方式提供一种眼镜镜片,其具有镜片基材、和直接或间接地形成于该镜片基材上的蒸镀膜,其中,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,所述金属选自锆及钽,在通过透射电子显微镜获取的所述蒸镀膜的截面图像中,观察到为条状、柱状或块状的区域所占的比例为20%以下。

    液晶板用防尘基片及其制造方法

    公开(公告)号:CN1270195C

    公开(公告)日:2006-08-16

    申请号:CN03127460.9

    申请日:2003-08-07

    CPC classification number: G02B1/115 G02B1/116

    Abstract: 本发明涉及制造抗反射涂层基片,其包括透明基片(1)和在透明基片上形成的抗反射膜,抗反射膜由多层膜制成,所述多层膜具有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层:中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)。中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成,高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成。低折射指数层由含有硅和氧的材料制成。抗反射膜用一种在线溅射仪器,通过相继层积这些层而形成。

Patent Agency Ranking