制造抗反射涂层基片的方法

    公开(公告)号:CN1484045A

    公开(公告)日:2004-03-24

    申请号:CN03127460.9

    申请日:2003-08-07

    CPC classification number: G02B1/115 G02B1/116

    Abstract: 本发明涉及制造抗反射涂层基片,其包括透明基片(1)和在透明基片上形成的抗反射膜,抗反射膜由多层膜制成,所述多层膜具有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层:中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)。中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成,高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成。低折射指数层由含有硅和氧的材料制成。抗反射膜用一种在线溅射仪器,通过相继层积这些层而形成。

    液晶板用防尘基片及其制造方法

    公开(公告)号:CN1270195C

    公开(公告)日:2006-08-16

    申请号:CN03127460.9

    申请日:2003-08-07

    CPC classification number: G02B1/115 G02B1/116

    Abstract: 本发明涉及制造抗反射涂层基片,其包括透明基片(1)和在透明基片上形成的抗反射膜,抗反射膜由多层膜制成,所述多层膜具有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层:中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)。中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成,高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成。低折射指数层由含有硅和氧的材料制成。抗反射膜用一种在线溅射仪器,通过相继层积这些层而形成。

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