公开(公告)号：CN103512567A

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201310255880.2

申请日：2013-06-25

Applicant: FEI公司

Inventor： C.巴格 ,  G.克拉克 ,  T.汉森 ,  S.E.富勒 ,  J.唐纳德

IPC: G01C15/02

CPC classification number: H01J37/30 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3045 ,  H01J2237/2811 ,  H01J2237/31732 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749 ,  Y10T428/24488 ,  Y10T428/24802

Abstract: 一种用于在样品上形成基准并且使用该基准来定位该样品上的所感兴趣的区域的方法和系统，该方法包括通过以下步骤来形成一个基准：在样品上接近于该样品上的所感兴趣的区域处来沉积一种材料块，该材料块从该样品的表面延伸至该样品表面上方的可检测范围；并且使用一个带电粒子束在该材料块的至少两个暴露面中铣削一个预定图案；在形成该基准之后，通过检测该基准的位置来检测该所感兴趣的区域的位置；并且在检测到该所感兴趣的区域的位置之后，用一个带电粒子束来对该所感兴趣的区域进行成像或铣削。

公开(公告)号：CN104428867A

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：CN201280074759.3

申请日：2012-07-16

Applicant: FEI公司

Inventor： S.E.富勒 ,  J.唐纳德 ,  T.西蒙特柴鲍沃尔恩

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/317 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3005 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/24578 ,  H01J2237/2814 ,  H01J2237/30466 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749

Abstract: 为了暴露期望的特征，对来自横截面的薄片的聚焦离子束研磨与形成每个新暴露的横截面的扫描电子图像交替。当新暴露的横截面的电子束图像的自动分析示出满足预定标准时，停止研磨。

公开(公告)号：CN103512567B

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201310255880.2

申请日：2013-06-25

Applicant: FEI公司

Inventor： C.巴格 ,  G.克拉克 ,  T.汉森 ,  S.E.富勒 ,  J.唐纳德

IPC: G01C15/02

CPC classification number: H01J37/30 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3045 ,  H01J2237/2811 ,  H01J2237/31732 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749 ,  Y10T428/24488 ,  Y10T428/24802

Abstract: 一种用于在样品上形成基准并且使用该基准来定位该样品上的所感兴趣的区域的方法和系统，该方法包括通过以下步骤来形成一个基准：在样品上接近于该样品上的所感兴趣的区域处来沉积一种材料块，该材料块从该样品的表面延伸至该样品表面上方的可检测范围；并且使用一个带电粒子束在该材料块的至少两个暴露面中铣削一个预定图案；在形成该基准之后，通过检测该基准的位置来检测该所感兴趣的区域的位置；并且在检测到该所感兴趣的区域的位置之后，用一个带电粒子束来对该所感兴趣的区域进行成像或铣削。