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公开(公告)号：CN108700828A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780013380.4
申请日：2017-01-30
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种致动器系统(AS)配置成定位物体(OJ)，所述致动器系统包括压电式致动器(PA)，所述压电式致动器包括致动器接触表面(ACS)。所述压电式致动器置成经由所述致动器接触表面将力(F)施加至所述物体上。所述致动器系统还包括光学位置传感器(OPS)，所述光学位置传感器配置成测量所述致动器接触表面的位置。所述压电式致动器包括透明压电式材料。所述光学位置传感器配置成使光束(OB)穿过所述透明压电式材料透射至所述致动器接触表面。所述透明压电式材料可以是LiNBO3。所述光学位置传感器可以形成干涉仪。
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公开(公告)号：CN102954761A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210305329.X
申请日：2012-08-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： W·H·G·A·考恩 , E·J·M·尤森 , E·A·F·范德帕斯奇 , R·E·范莱文 , A·H·考沃埃特斯
CPC分类号： H01L23/544 , G03F7/70 , G03F7/70775 , G03F9/7019 , H01L21/682 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2223/5446 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 本发明公开了位置测量系统、光刻设备和器件制造方法。所述位置测量系统包括：第一部分和第二部分，用于通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一构件相对于第二构件的位置；和计算单元，包括用于接收所述位置信号的输入端子。所述计算单元配置成在使用时对位置信号应用转换以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号，和对所述转换应用调整以至少部分地补偿第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的漂移。所述调整是分别基于第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的预定的漂移特性。所述预定的漂移特性包括第一部分和/或第二部分的一个或多个基础形状。
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公开(公告)号：CN112912352B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN201980070004.8
申请日：2019-10-03
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： C03B37/012 , C03C25/68 , G03F7/20
摘要： 一种光纤、用于形成光纤的制造中间体以及一种用于形成光纤的方法。所述方法包括：提供制造中间体(300)，所述制造中间体具有细长本体并且包括外管(308)和多个内管(304)，多个内管布置在外管内，多个内管围绕着孔(302)以一个或多个环形结构的形式布置并且至少部分地限定孔，孔沿着细长本体的轴向维度延伸穿过细长本体的孔，孔的边界限定制造中间体的内表面。方法还包括：使用蚀刻物质蚀刻制造中间体的内表面，并且沿着轴向维度拉制制造中间体以形成光纤。
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公开(公告)号：CN112912352A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN201980070004.8
申请日：2019-10-03
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： C03B37/012 , C03C25/68 , G03F7/20
摘要： 一种光纤、用于形成光纤的制造中间体以及一种用于形成光纤的方法。所述方法包括：提供制造中间体(300)，所述制造中间体具有细长本体并且包括外管(308)和多个内管(304)，多个内管布置在外管内，多个内管围绕着孔(302)以一个或多个环形结构的形式布置并且至少部分地限定孔，孔沿着细长本体的轴向维度延伸穿过细长本体的孔，孔的边界限定制造中间体的内表面。方法还包括：使用蚀刻物质蚀刻制造中间体的内表面，并且沿着轴向维度拉制制造中间体以形成光纤。
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公开(公告)号：CN108700828B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201780013380.4
申请日：2017-01-30
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种致动器系统(AS)配置成定位物体(OJ)，所述致动器系统包括压电式致动器(PA)，所述压电式致动器包括致动器接触表面(ACS)。所述压电式致动器置成经由所述致动器接触表面将力(F)施加至所述物体上。所述致动器系统还包括光学位置传感器(OPS)，所述光学位置传感器配置成测量所述致动器接触表面的位置。所述压电式致动器包括透明压电式材料。所述光学位置传感器配置成使光束(OB)穿过所述透明压电式材料透射至所述致动器接触表面。所述透明压电式材料可以是LiNBO3。所述光学位置传感器可以形成干涉仪。
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公开(公告)号：CN102954761B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201210305329.X
申请日：2012-08-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： W·H·G·A·考恩 , E·J·M·尤森 , E·A·F·范德帕斯奇 , R·E·范莱文 , A·H·考沃埃特斯
CPC分类号： H01L23/544 , G03F7/70 , G03F7/70775 , G03F9/7019 , H01L21/682 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2223/5446 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 本发明公开了位置测量系统、光刻设备和器件制造方法。所述位置测量系统包括：第一部分和第二部分，用于通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一构件相对于第二构件的位置；和计算单元，包括用于接收所述位置信号的输入端子。所述计算单元配置成在使用时对位置信号应用转换以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号，和对所述转换应用调整以至少部分地补偿第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的漂移。所述调整是分别基于第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的预定的漂移特性。所述预定的漂移特性包括第一部分和/或第二部分的一个或多个基础形状。
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