公开(公告)号：CN102483582A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201080037150.X

申请日：2010-08-05

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·斯米尔德 ,  A·邓鲍夫 ,  W·考恩 ,  阿诺·布里克 ,  A·库兰 ,  H·柏莱曼斯 ,  R·普拉格

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/70616

Abstract: 一种量测设备布置成以离轴照射模式照射多个目标。仅利用一个第一级衍射束获得目标的图像。在目标是复合光栅的情况下，可以根据不同光栅的图像的强度获得重叠测量。重叠测量可以被针对于由光栅在像场中的位置变化引起的误差进行校正。

公开(公告)号：CN102483582B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201080037150.X

申请日：2010-08-05

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·斯米尔德 ,  A·邓鲍夫 ,  W·考恩 ,  阿诺·布里克 ,  A·库兰 ,  H·柏莱曼斯 ,  R·普拉格

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/70616

Abstract: 一种量测设备布置成以离轴照射模式照射多个目标。仅利用一个第一级衍射束获得目标的图像。在目标是复合光栅的情况下，可以根据不同光栅的图像的强度获得重叠测量。重叠测量可以被针对于由光栅在像场中的位置变化引起的误差进行校正。