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公开(公告)号：CN101563653A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200780047176.0
申请日：2007-12-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·J·布里克 , D·J·P·A·弗兰肯 , J·H·G·弗兰森 , J·T·G·M·范德万 , M·普特 , T·P·A·德维特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/707 , H01L21/683
Abstract: 一种光刻设备包括：照射系统，构造且设置以调节辐射束；和支撑件，构造且设置以支撑图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在其横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。所述设备还包括：衬底台，构造且设置以保持衬底；和投影系统，构造且设置以将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。所述衬底台包括：多个突出部，构造且设置以支撑衬底的底部截面的对应部分；和致动器，构造且设置以在衬底中激发冲击波。
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