公开(公告)号：CN101859072A

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN201010162215.5

申请日：2010-04-08

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： E·H·E·C·尤姆麦伦 ,  K·斯蒂芬斯 ,  兼子毅之 ,  G·M·M·考克恩

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了一种流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法。具体地，公开了一种用于浸没式光刻设备的流体处理系统，其具有用以从浸没空间中去除浸没液体的流体去除装置，和用以去除浸没液体的液滴的液滴去除装置，其中：液滴去除装置比流体去除装置远离光学轴线，并且液滴去除装置包括面对例如被曝光的衬底和/或衬底台的多孔部件。

公开(公告)号：CN101859072B

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201010162215.5

申请日：2010-04-08

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： E·H·E·C·尤姆麦伦 ,  K·斯蒂芬斯 ,  兼子毅之 ,  G·M·M·考克恩

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了一种流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法。具体地，公开了一种用于浸没式光刻设备的流体处理系统，其具有用以从浸没空间中去除浸没液体的流体去除装置，和用以去除浸没液体的液滴的液滴去除装置，其中：液滴去除装置比流体去除装置远离光学轴线，并且液滴去除装置包括面对例如被曝光的衬底和/或衬底台的多孔部件。