公开(公告)号：CN101408733A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200810168934.0

申请日：2008-09-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： B·斯蒂夫克尔克 ,  R·F·德格拉夫 ,  J·C·H·马尔肯斯 ,  M·贝克尔斯 ,  P·P·J·伯克文斯 ,  D·L·安斯陶特兹

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备，并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果，产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。

公开(公告)号：CN101408733B

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：CN200810168934.0

申请日：2008-09-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： B·斯蒂夫克尔克 ,  R·F·德格拉夫 ,  J·C·H·马尔肯斯 ,  M·贝克尔斯 ,  P·P·J·伯克文斯 ,  D·L·安斯陶特兹

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备，并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果，产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。

公开(公告)号：CN102156390B

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：CN201110086003.8

申请日：2008-09-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： B·斯蒂夫克尔克 ,  R·F·德格拉夫 ,  J·C·H·马尔肯斯 ,  M·贝克尔斯 ,  P·P·J·伯克文斯 ,  D·L·安斯陶特兹

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备，并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果，产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。

公开(公告)号：CN102156390A

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN201110086003.8

申请日：2008-09-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： B·斯蒂夫克尔克 ,  R·F·德格拉夫 ,  J·C·H·马尔肯斯 ,  M·贝克尔斯 ,  P·P·J·伯克文斯 ,  D·L·安斯陶特兹

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备，并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果，产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。