公开(公告)号：CN108698850B

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN201780013932.1

申请日：2017-02-09

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： P·M·鲍姆加特 ,  C·拉加古鲁 ,  B·A·萨姆斯 ,  A·B·里丁格 ,  J·K·卡多库斯 ,  G·O·瓦申科

IPC分类号： C01G19/02 ,  C22B7/04 ,  C22B25/08 ,  G21K5/08

摘要： 一种用于净化用于EUV光源的靶材料的脱氧系统包括炉子，该炉子具有中央区域和用于以均匀方式加热中央区域的加热器。容器被插入炉子的中央区域，并且坩埚设置在容器内。封闭装置覆盖容器的开口端以形成具有真空和压力能力的密封。该系统还包括气体输入管、气体排出管和真空端口。气体供应网络与气体输入管的一端流动连通地耦合，并且气体供应网络与气体排出管的一端流动连通地耦合。真空网络与真空端口的一端流动连通地耦合。还描述了一种用于净化靶材料的方法和设备。

公开(公告)号：CN116235637A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202180065017.3

申请日：2021-08-24

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： R·S·卡帕迪亚 ,  C·拉加古鲁 ,  M·H·A·里恩德斯 ,  S·W·科瓦尔克 ,  G·O·瓦斯琴科

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 减压装置包括由可压缩材料形成并且被安置在目标材料供应系统内的结构的内表面处的减压组件。目标材料供应系统被配置为递送目标材料。该结构的内表面限定目标材料供应系统内的空腔。该结构由刚性材料形成，并被配置为将目标材料包含在空腔内。该减压组件被配置为被动地防止空腔中的压力超过最大允许值。

公开(公告)号：CN113170566A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980071670.3

申请日：2019-10-25

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： G·O·瓦斯琴科 ,  C·拉加古鲁 ,  A·I·厄肖夫 ,  J·M·卢肯斯 ,  M·C·亚伯拉罕 ,  B·罗林格

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 公开了一种用于生成EUV辐射的系统，在系统中通过如下控制流过液滴生成器中的喷嘴的孔口320中的目标材料的电流：提供针对电流的交替的较低阻抗路径和/或通过限制施加到液滴生成器的驱动信号的高频分量。

公开(公告)号：CN118476317A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202280086300.9

申请日：2022-11-22

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： L·伊索 ,  C·拉加古鲁 ,  K·R·乌姆斯塔德特

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 控制系统(190)包括：操作模块，被配置为通过将施加到目标供应装置(110)中的熔融目标材料的压力P的量从第一装置压力增加到第二装置压力来控制启动模式下的目标供应装置；以及控制模块，被配置为通过控制容器压力在启动模式期间将从目标供应装置发射的目标材料引导到真空室(109)内部的接纳部(160)中。容器压力是真空室内部的压力，目标材料在转化为等离子体时发射EUV光，并且在启动模式期间目标材料不会转化为发射EUV光的等离子体。

公开(公告)号：CN107077905A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580059843.1

申请日：2015-10-20

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： C·拉加古鲁 ,  J·M·阿戈提斯 ,  石川哲也 ,  P·M·鲍姆加特

IPC分类号： G21K5/04

CPC分类号： H05G2/006 ,  H05G2/008

摘要： 公开了一种EUV光源靶材料处理系统，其包括靶材料分配器和靶材料贮存器，其中通过使用感应加热将靶材料贮存器中的固体靶材料转换为液体形式的靶材料。

公开(公告)号：CN115918265A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180046047.X

申请日：2021-06-21

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·I·厄肖夫 ,  C·拉加古鲁 ,  D·U·H·特雷斯 ,  J·M·卢肯斯 ,  T·W·德赖森 ,  R·J·拉法克 ,  G·O·瓦斯琴科

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 用于加速用于生成EUV辐射的液滴的装置和方法包括产生导向照射区域的激光束的装置和液滴源。液滴源包括以流的形式离开喷嘴的流体，该流分解成液滴，然后经历聚结。然后，液滴受到气流的作用，气流夹带液滴并使之加速。

公开(公告)号：CN107077905B

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201580059843.1

申请日：2015-10-20

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： C·拉加古鲁 ,  J·M·阿戈提斯 ,  石川哲也 ,  P·M·鲍姆加特

IPC分类号： G21K5/04

CPC分类号： H05G2/006 ,  H05G2/008

摘要： 公开了一种EUV光源靶材料处理系统，其包括靶材料分配器和靶材料贮存器，其中通过使用感应加热将靶材料贮存器中的固体靶材料转换为液体形式的靶材料。

公开(公告)号：CN108698850A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780013932.1

申请日：2017-02-09

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： P·M·鲍姆加特 ,  C·拉加古鲁 ,  B·A·萨姆斯 ,  A·B·里丁格 ,  J·K·卡多库斯 ,  G·O·瓦申科

IPC分类号： C01G19/02 ,  C22B7/04 ,  C22B25/08 ,  G21K5/08

CPC分类号： H05G2/008 ,  C22B9/04 ,  C22B25/08 ,  F27B17/00 ,  F27B17/02 ,  H05G2/005

摘要： 一种用于净化用于EUV光源的靶材料的脱氧系统包括炉子，该炉子具有中央区域和用于以均匀方式加热中央区域的加热器。容器被插入炉子的中央区域，并且坩埚设置在容器内。封闭装置覆盖容器的开口端以形成具有真空和压力能力的密封。该系统还包括气体输入管、气体排出管和真空端口。气体供应网络与气体输入管的一端流动连通地耦合，并且气体供应网络与气体排出管的一端流动连通地耦合。真空网络与真空端口的一端流动连通地耦合。还描述了一种用于净化靶材料的方法和设备。