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公开(公告)号：CN113960896B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202111318004.0
申请日：2017-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种评估图案化工艺的方法，该方法包括：获得第一量测目标的第一测量的结果；获得第二量测目标的第二测量的结果，第二量测目标与第一量测目标具有结构差异，结构差异生成在第一与第二量测目标之间的、图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；以及由计算机系统，基于第一和第二测量的结果，确定与图案化工艺有关的值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111051987B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201880055970.8
申请日：2018-08-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种包括用于测量器件制造工艺的参数的多个特征的基底以及相关联的方法和装置。该测量是通过用来自光学设备的测量辐射照射特征、并且检测由测量辐射与特征之间的相互作用引起的信号来进行的，其中多个特征包括以第一间距以周期性方式分布的第一特征和以第二间距以周期性方式分布的第二特征，并且其中第一间距和第二间距使得第一特征和第二特征的组合间距是恒定的，而不管多个特征中是否存在间距行走。
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公开(公告)号：CN111051987A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880055970.8
申请日：2018-08-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种包括用于测量器件制造工艺的参数的多个特征的基底以及相关联的方法和装置。该测量是通过用来自光学设备的测量辐射照射特征、并且检测由测量辐射与特征之间的相互作用引起的信号来进行的，其中多个特征包括以第一间距以周期性方式分布的第一特征和以第二间距以周期性方式分布的第二特征，并且其中第一间距和第二间距使得第一特征和第二特征的组合间距是恒定的，而不管多个特征中是否存在间距行走。
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公开(公告)号：CN109690411A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780055646.1
申请日：2017-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/70625 , G03F7/70683
Abstract: 一种评估图案化工艺的方法，该方法包括：获得第一量测目标的第一测量的结果；获得第二量测目标的第二测量的结果，第二量测目标与第一量测目标具有结构差异，结构差异生成在第一与第二量测目标之间的、图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；以及由计算机系统，基于第一和第二测量的结果，确定与图案化工艺有关的值。
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公开(公告)号：CN113960896A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111318004.0
申请日：2017-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种评估图案化工艺的方法，该方法包括：获得第一量测目标的第一测量的结果；获得第二量测目标的第二测量的结果，第二量测目标与第一量测目标具有结构差异，结构差异生成在第一与第二量测目标之间的、图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；以及由计算机系统，基于第一和第二测量的结果，确定与图案化工艺有关的值。
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公开(公告)号：CN109690411B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN201780055646.1
申请日：2017-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种评估图案化工艺的方法，该方法包括：获得第一量测目标的第一测量的结果；获得第二量测目标的第二测量的结果，第二量测目标与第一量测目标具有结构差异，结构差异生成在第一与第二量测目标之间的、图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；以及由计算机系统，基于第一和第二测量的结果，确定与图案化工艺有关的值。
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