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公开(公告)号：CN119575749A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202411819517.3
申请日：2019-10-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 彼得-詹·范兹沃勒 , S·伯恩特松 , D·德格拉夫 , 约翰内斯·克里斯蒂安·里昂纳多斯·弗兰肯 , A·J·M·吉斯贝斯 , A·L·克莱因 , J·H·克洛特韦克 , P·S·A·克纳彭 , E·库尔干诺娃 , 阿列克谢·谢尔盖耶维奇·库兹涅佐夫 , A·W·诺藤布姆 , M·瓦莱特 , M·A·范德克尔克霍夫 , W·T·A·J·范登艾登 , T·W·范德伍德 , H·J·旺德杰姆 , A·N·兹德拉夫科夫
Abstract: 一种用于制造用于EUV光刻的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供叠层，叠层包括：至少一个隔膜层，由平面基底支撑，其中所述平面基底包括内部区和围绕所述内部区的边界区；和第一牺牲层，所述第一牺牲层位于所述平面基底与所述隔膜层之间；选择性地移除所述平面基底的所述内部区，其中选择性地移除所述平面基底的所述内部区的步骤包括使用对于所述隔膜层及其氧化物具有类似的蚀刻速率且对于所述第一牺牲层具有实质上不同的蚀刻速率的蚀刻剂；使得所述隔膜组件包括：隔膜，所述隔膜由所述至少一个隔膜层形成；和边界部，所述边界部保持所述隔膜，所述边界部包括所述平面基底的所述边界区和位于所述边界部与所述隔膜层之间的所述第一牺牲层。
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公开(公告)号：CN113811635A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202080028120.6
申请日：2020-03-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·德鲁日尼纳 , J·V·奥弗坎普 , A·O·波利雅科夫 , T·J·科南 , E·库加诺娃 , I·M·西奥比卡 , A·L·克莱因 , A·V·G·曼格努斯 , M·斯科特兹 , B·M·范德布罗艾克
Abstract: 本发明公开用于形成图案化材料层的方法和装置。在一个布置中，衬底的表面的选定部分在沉积过程期间被照射，所述照射在所述选定部分中局部驱动所述沉积过程，并且由此在由所述选定部分限定的图案中形成沉积材料层。对所述沉积材料进行退火以改变所述沉积材料。
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公开(公告)号：CN112930498B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN201980068236.X
申请日：2019-10-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 彼得-詹·范兹沃勒 , S·伯恩特松 , D·德格拉夫 , 约翰内斯·克里斯蒂安·里昂纳多斯·弗兰肯 , A·J·M·吉斯贝斯 , A·L·克莱因 , J·H·克洛特韦克 , P·S·A·克纳彭 , E·库尔干诺娃 , 阿列克谢·谢尔盖耶维奇·库兹涅佐夫 , A·W·诺藤布姆 , M·瓦莱特 , M·A·范德克尔克霍夫 , W·T·A·J·范登艾登 , T·W·范德伍德 , H·J·旺德杰姆 , A·N·兹德拉夫科夫
Abstract: 一种用于制造用于EUV光刻的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供叠层，所述叠层包括：至少一个隔膜层，所述至少一个隔膜层由平面基底支撑，其中所述平面基底包括内部区和围绕所述内部区的边界区；和第一牺牲层，所述第一牺牲层位于所述平面基底与所述隔膜层之间；选择性地移除所述平面基底的所述内部区，其中选择性地移除所述平面基底的所述内部区的步骤包括使用对于所述隔膜层及其氧化物具有类似的蚀刻速率且对于所述第一牺牲层具有实质上不同的蚀刻速率的蚀刻剂；使得所述隔膜组件包括：隔膜，所述隔膜由所述至少一个隔膜层形成；和边界部，所述边界部保持所述隔膜，所述边界部包括所述平面基底的所述边界区和位于所述边界部与所述隔膜层之间的所述第一牺牲层。
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公开(公告)号：CN118202303A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202280069982.2
申请日：2022-10-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： I·唐梅兹诺扬 , T·W·范德伍德 , J·赖宁克 , T·W·J·范德古尔 , A·L·克莱因 , Z·S·豪厄林 , 保罗·亚历山大·维梅伦 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·H·克洛特韦克 , L·I·J·C·贝格斯
IPC: G03F1/62
Abstract: 提供了一种表膜隔膜，包括在硅基基质中的金属硅化物晶体群，其中表膜隔膜具有0.3或更高的发射率。还提供了一种制造表膜隔膜、表膜组件、包括这种表膜隔膜或表膜组件的光刻设备的方法。还描述了这种表膜隔膜、表膜组件或光刻设备在光刻设备或方法中的用途。
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公开(公告)号：CN116783553A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202180080481.X
申请日：2021-11-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·R·S·哈斯帕拉夫 , N·潘迪 , T·W·范德伍德 , 哈利勒·戈凯·叶根 , J·V·奥沃卡姆普 , G·布瑞恩达尼托里 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , A·L·克莱因 , E·A·奥索里奥欧利弗罗斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个多层压电致动器，所述至少一个多层压电致动器用于使所述反射镜移位，其中，所述至少一个多层压电致动器被连接至所述衬底，并且其中所述至少一个多层压电致动器包括多个压电材料压电层，所述多个压电材料压电层与多个电极层交错以形成叠置层。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或用于检查和/或量测设备中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118679431A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202380023006.8
申请日：2023-01-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/15 , G01N21/956
Abstract: 描述一种样本检查工具。所述检查工具包括：光源，所述光源被配置成产生低于200 nm的有效检查辐射；样本保持器；成像子系统，所述成像子系统包含子系统部件，所述子系统部件沿光路径将光从所述光源传送至待由所述样本保持器保持的样本；以及阻挡件，所述阻挡件被定位在所述光路径中的最后的子系统部件与待由所述样本保持器保持的样本之间。所述阻挡件允许在所述辐射从其传递穿过的同时阻止杂质到达待由所述样本保持器保持的样本。在另一实施例中，提供一种用于在检查工具中使用的阻挡件。
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公开(公告)号：CN118302720A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202280078310.8
申请日：2022-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： Z·S·豪厄林 , 保罗·亚历山大·维梅伦 , A·L·克莱因
IPC: G03F1/62
Abstract: 披露了一种用于形成在光刻设备中使用的表膜的方法。所述方法包括：设置由第一材料形成的多孔隔膜；将至少一个二维材料层施加至所述多孔隔膜的至少一侧；和将覆盖层施加至所述多孔隔膜的至少一侧上的所述至少一个二维材料层，使得所述至少一个二维材料层被设置在所述或每个覆盖层与所述多孔隔膜之间。所述至少一个二维材料层用于封闭所述多孔隔膜的相邻侧且形成所述表膜的较光滑且较平坦的外表面。有利地，这允许保护所述多孔隔膜免受蚀刻，而同时减少EUV闪烁，而不管用于所述覆盖层的材料如何。
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公开(公告)号：CN114930246A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202080092236.6
申请日：2020-12-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·W·范德伍德 , V·D·希尔德布兰德 , 因奇·唐梅兹诺扬 , A·J·M·吉斯贝斯 , A·L·克莱因
Abstract: 提供了一种用于光刻设备的表膜隔膜，所述隔膜包括基体，所述基体包括分布在其中的多个包含物。还提供了一种制造所述表膜隔膜的方法、包括所述表膜隔膜的光刻设备、用于光刻设备的包括所述隔膜的表膜组件、以及表膜隔膜在光刻设备或方法中的用途。
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公开(公告)号：CN112334832A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201980042099.2
申请日：2019-05-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种表膜包括：芯，所述芯包括不同于碳化硅的材料；碳化硅粘合层；以及钌罩盖层，所述钌罩盖层与所述碳化硅粘合层接触。还描述了一种制备表膜的方法，包括以下步骤：(i)设置表膜芯；(ii)在表膜芯上设置碳化硅粘合层；以及(iii)设置与所述碳化硅粘合层相接触的钌罩盖层。还提供一种碳化硅在EUV表膜中作为粘合层的用法，以及一种组件。
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公开(公告)号：CN116507581A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202180079827.4
申请日：2021-11-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·R·S·哈斯帕拉夫 , N·潘迪 , T·W·范德伍德 , 哈利勒·戈凯·叶根 , J·V·奥沃卡姆普 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , A·胡布里特 , A·L·克莱因 , G·布瑞恩达尼托里 , E·A·奥索里奥欧利弗罗斯
IPC: B81B7/00
Abstract: 一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对所述多个反射镜中的每个反射镜，用于使所述反射镜移位的至少一个压电致动器，其中，所述至少一个压电致动器被连接至所述衬底。所述微反射镜阵列还包括将所述反射镜连接至所述至少一个压电致动器的一个或更多个导柱。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查和/或量测设备中。
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