公开(公告)号：CN117120577A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202280028129.6

申请日：2022-04-08

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 谷口太平 ,  小口亮平 ,  江口创 ,  入江正胜 ,  安祐辅 ,  岩本纮明 ,  杉山和典

IPC: C09K3/18

Abstract: 本发明提供即使为烃系也能够赋予优异的拒液性的拒液剂组合物；使用前述拒液剂组合物的基材的处理方法；及具备即使为烃系也拒液性优异的涂膜的物品。本发明的拒液剂组合物包含聚合物(A)，所述聚合物(A)具有基于下述单体(a)的单元；本发明的基材的处理方法中，利用本发明的拒液剂组合物对基材进行处理；本发明的物品具有利用本发明的拒液剂组合物进行了处理的基材。(R1‑Q1‑)HC＝CH(‑Q2‑R2)式(a)。Q1及Q2：各自独立地为二价连接基团。R1及R2：各自独立地为碳数8～24的一价烃基。

公开(公告)号：CN119768483A

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202380060788.2

申请日：2023-08-22

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 中岛秀喜 ,  加藤知夫 ,  赤时正敏 ,  冈村有造 ,  岩本纮明

IPC: C09K3/14 ,  B24B1/00 ,  B24B37/015 ,  B24B53/017 ,  C09G1/02 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供能够高速且高平坦地研磨包含树脂的被研磨面的研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法。一种研磨剂，用于对包含树脂的被研磨面进行研磨，含有磨粒、水溶性含氮化合物和水，上述水溶性含氮化合物包含下述式(1)～(3)表示的化合物或其盐。其中，各符号如说明书中记载。#imgabs0#