公开(公告)号：CN109415550A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201780039821.8

申请日：2017-06-06

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 小尾正树 ,  谷口太平

IPC: C08L33/16 ,  B29C33/38 ,  B29C33/58 ,  C08F220/24 ,  C08K5/04 ,  C08K5/17 ,  C08L27/12 ,  C09D175/04 ,  C09D201/04

Abstract: 本发明提供能形成脱模性优异、且耐久性优异的膜的树脂组合物和涂布液、以及具备脱模性优异、且耐久性优异的脱模膜的带脱模膜的模具及其制造方法。树脂组合物包含共聚物(A1)和化合物(B)，上述共聚物(A1)具有来源于具有有1个以上的氟原子的有机基团(但不具有封端异氰酸酯基和含活性氢原子的官能团)的单体的单元、来源于具有封端异氰酸酯基(但不具有含活性氢原子的官能团)的单体的单元、和来源于具有含活性氢原子的官能团(但不具有封端异氰酸酯基)的单体的单元；上述化合物(B)具有2个以上的选自羟基、氨基和羧基的至少1种的官能团、且其沸点在共聚物(A1)中的封端异氰酸酯基的封端解离温度以上且在400℃以下。

公开(公告)号：CN108602927A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201780007185.0

申请日：2017-01-18

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 小尾正树 ,  樱田智明 ,  谷口太平 ,  佐佐木都

IPC: C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08K3/16 ,  C08K5/42 ,  C08L33/14 ,  C12M1/00 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/039 ,  B01L3/5085 ,  B01L2200/0668 ,  B01L2300/0819 ,  B01L2300/0896 ,  B01L2300/12 ,  C08F220/16 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/325 ,  C08F2800/10 ,  C08K3/16 ,  C08K5/42 ,  C08L33/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  C08F2220/1825

Abstract: 本发明提供不经PEB处理也能通过碱性水溶液以高分辨率形成斥液性膜的生物芯片用感光性树脂组合物、斥液性膜的形成方法以及生物芯片的制造方法等。生物芯片用感光性树脂组合物，它是含有下述聚合物(A)或者含有下述聚合物(B)和下述聚合物(C)的组合物，相对于构成该组合物的单元的总数，含有35～97摩尔％的下述单元(u2)。单元(u2)：下式(II)所示的单元。聚合物(A)：含有具有含1个以上氟原子的有机基团的单元(u1)和单元(u2)的聚合物。聚合物(B)：含有具有含1个以上氟原子的有机基团的单元(u1)的除聚合物(A)以外的聚合物。聚合物(C)：含有单元(u2)的除聚合物(A)以外的聚合物。[化1](R21：氢原子或甲基、R22：烷基等、R23：氢原子等、R24：烷基、环烷基等。)

公开(公告)号：CN117120577A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202280028129.6

申请日：2022-04-08

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 谷口太平 ,  小口亮平 ,  江口创 ,  入江正胜 ,  安祐辅 ,  岩本纮明 ,  杉山和典

IPC: C09K3/18

Abstract: 本发明提供即使为烃系也能够赋予优异的拒液性的拒液剂组合物；使用前述拒液剂组合物的基材的处理方法；及具备即使为烃系也拒液性优异的涂膜的物品。本发明的拒液剂组合物包含聚合物(A)，所述聚合物(A)具有基于下述单体(a)的单元；本发明的基材的处理方法中，利用本发明的拒液剂组合物对基材进行处理；本发明的物品具有利用本发明的拒液剂组合物进行了处理的基材。(R1‑Q1‑)HC＝CH(‑Q2‑R2)式(a)。Q1及Q2：各自独立地为二价连接基团。R1及R2：各自独立地为碳数8～24的一价烃基。

公开(公告)号：CN118843648A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202380026628.6

申请日：2023-03-02

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 谷口太平 ,  江口创 ,  小口亮平

IPC: C08F220/28 ,  B32B27/30 ,  C08F293/00

Abstract: 一种共聚物，其包含具有反应性甲硅烷基的单元(A)、具有下式(1)所示的基团的单元(B)和下式(2)所示的单元(C)。其中，n1为2或3，n2为0～300整数，n3为2或3，n4为0～300的整数，R6为烷基，用(n4+1)/R6的碳原子数表示的比为0.5以上且小于9。#imgabs0#