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公开(公告)号：CN117950284A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202311509479.7
申请日：2023-11-13
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
摘要： 本发明公开了一种提高套刻量测精度的方法，包括调整镜头的位置，以将套刻标记分为内标记聚焦区域和外标记聚焦区域；分别对内标记聚焦区域和外标记聚焦区域进行图像清晰度评价，以获取第一清晰焦面位置和第二清晰焦面位置；获取第一清晰焦面位置和第二清晰焦面位置的焦面位置差，并将焦面位置差与预设距离进行比对；获取比对结果，并根据比对结果选择对应的聚焦流程测试方法；设置测试参数，并根据测试参数和聚焦流程测试方法进行聚焦流程测试。本发明能够根据聚焦焦面差自动选择聚焦量测方式，解决了现有的量测方法需要结合工艺信息手动选择聚焦测试方式的问题。
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公开(公告)号：CN117518736A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311597002.9
申请日：2023-11-27
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
摘要： 本申请提供一种套刻误差量测的方法、装置、系统及存储介质，其中套刻误差量测的方法包括：采用套刻标识模板，在待量测图上匹配获取定位匹配图形；将定位匹配图形进行分割获得标记位置及两相邻区域；计算两相邻区域图像的相关性系数，相关性系数代表两相邻区域的相似度；若相关性系数满足预设阈值，则根据套刻标识对应标记位置来确定套刻误差。本说明书实施例套刻误差量测的方法建模流程简单，且提升量测的准确性和稳定性。
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公开(公告)号：CN117311103A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311436145.1
申请日：2023-10-31
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
摘要： 本申请提供一种套刻误差测量方法、装置、系统及存储介质；其中方法包括分别获取当层标记和前层标记的空域信号；将空域信号采用傅里叶变换转变为频域信号；根据傅里叶变换对应功率谱得到最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数；其中最大信噪比代表优化获得目标信号与噪声的比例；分别根据当层标记和前层标记对应最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数的最大发生位置得到套刻误差。本说明书实施例通过对采样信号中噪声影响进行优化，进而通过计算最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数对应发生位置的差异得到套刻误差。无需专门设置对应的量测参数，且适用于多种不同套刻标记类型套刻误差的计算，并在可靠性和精准性也有一定提升。
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公开(公告)号：CN117518736B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202311597002.9
申请日：2023-11-27
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
摘要： 本申请提供一种套刻误差量测的方法、装置、系统及存储介质，其中套刻误差量测的方法包括：采用套刻标识模板，在待量测图上匹配获取定位匹配图形；将定位匹配图形进行分割获得标记位置及两相邻区域；计算两相邻区域图像的相关性系数，相关性系数代表两相邻区域的相似度；若相关性系数满足预设阈值，则根据套刻标识对应标记位置来确定套刻误差。本说明书实施例套刻误差量测的方法建模流程简单，且提升量测的准确性和稳定性。
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公开(公告)号：CN117311103B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202311436145.1
申请日：2023-10-31
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
摘要： 本申请提供一种套刻误差测量方法、装置、系统及存储介质；其中方法包括分别获取当层标记和前层标记的空域信号；将空域信号采用傅里叶变换转变为频域信号；根据傅里叶变换对应功率谱得到最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数；其中最大信噪比代表优化获得目标信号与噪声的比例；分别根据当层标记和前层标记对应最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数的最大发生位置得到套刻误差。本说明书实施例通过对采样信号中噪声影响进行优化，进而通过计算最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数对应发生位置的差异得到套刻误差。无需专门设置对应的量测参数，且适用于多种不同套刻标记类型套刻误差的计算，并在可靠性和精准性也有一定提升。
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公开(公告)号：CN117452782B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311686192.1
申请日：2023-12-08
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种图像聚焦方法和图像聚焦系统，图像聚焦方法通过获取对比度曲线和图像比对模板；获取测量套刻标记的测量套刻图像，并获取测量套刻图像的图像对比度值；将图像对比度值与对比度曲线进行比对，以获取至少一焦面位置；基于至少一焦面位置获取至少一粗聚焦焦面图像，基于至少一粗聚焦焦面图像获取粗聚焦最佳焦面位置；围绕粗聚焦最佳焦面位置获取多个细聚焦焦面位置，将图像比对模板与细聚焦焦面图像进行匹配，以得到最终匹配得分曲线；基于最终匹配得分曲线获取细聚焦最佳焦面位置。本发明能够在一定程度上替代现有的白光干涉模块，也解决了现有的图像聚焦方法容易聚焦失败的问题，实现套刻图案的快速聚焦。
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公开(公告)号：CN117637513B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202311628531.0
申请日：2023-11-30
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
摘要： 本申请提供一种关键尺寸的量测方法、装置、设备及存储介质，应用于关键尺寸量测技术领域，获取多张待测对象对应的目标量测图像，通过对多张目标量测图像做灰度投影处理，得到多张目标量测图像对应的多条一维曲线，从而叠加多张目标量测图像对应的多条一维曲线，生成目标合成图像，在目标合成图像上建立第一区域，并基于第一区域对目标合成图像做灰度投影处理，以得到目标合成图像对应的一维曲线，从而对目标合成图像对应的一维曲线求导并插值，得到量测信息，最终基于量测信息计算待测对象的关键尺寸。本申请提供的关键尺寸量测方法能够在控制成本保证量测效率的前提下，提升关键尺寸量测的准确性和稳定性。
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公开(公告)号：CN117637513A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202311628531.0
申请日：2023-11-30
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
摘要： 本申请提供一种关键尺寸的量测方法、装置、设备及存储介质，应用于关键尺寸量测技术领域，获取多张待测对象对应的目标量测图像，通过对多张目标量测图像做灰度投影处理，得到多张目标量测图像对应的多条一维曲线，从而叠加多张目标量测图像对应的多条一维曲线，生成目标合成图像，在目标合成图像上建立第一区域，并基于第一区域对目标合成图像做灰度投影处理，以得到目标合成图像对应的一维曲线，从而对目标合成图像对应的一维曲线求导并插值，得到量测信息，最终基于量测信息计算待测对象的关键尺寸。本申请提供的关键尺寸量测方法能够在控制成本保证量测效率的前提下，提升关键尺寸量测的准确性和稳定性。
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公开(公告)号：CN117452782A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311686192.1
申请日：2023-12-08
申请人： 魅杰光电科技(上海)有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种图像聚焦方法和图像聚焦系统，图像聚焦方法通过获取对比度曲线和图像比对模板；获取测量套刻标记的测量套刻图像，并获取测量套刻图像的图像对比度值；将图像对比度值与对比度曲线进行比对，以获取至少一焦面位置；基于至少一焦面位置获取至少一粗聚焦焦面图像，基于至少一粗聚焦焦面图像获取粗聚焦最佳焦面位置；围绕粗聚焦最佳焦面位置获取多个细聚焦焦面位置，将图像比对模板与细聚焦焦面图像进行匹配，以得到最终匹配得分曲线；基于最终匹配得分曲线获取细聚焦最佳焦面位置。本发明能够在一定程度上替代现有的白光干涉模块，也解决了现有的图像聚焦方法容易聚焦失败的问题，实现套刻图案的快速聚焦。
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