X射线分析设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110389143A

    公开(公告)日:2019-10-29

    申请号:CN201910300453.9

    申请日:2019-04-15

    Abstract: 本公开涉及但不限于X射线分析设备。所述设备包括用于支撑样本的样本台、具有旋转轴的测角仪和布置成绕测角仪的旋转轴可旋转的X射线检测器,其中X射线检测器布置成接收来自样本的沿着X射线束路径引导的X射线。X射线分析设备还包括均具有第一和第二配置的第一、第二和第三准直器。准直器在其第一配置中布置在X射线束路径中。准直器在其第二配置中布置在X射线束路径之外。第一致动器装置配置成通过在与X射线束路径相交的横向方向移动第一和第二准直器来在第一和第二配置之间移动第一和第二准直器。第二致动器装置配置成使第三准直器在其第一和第二配置之间移动。控制器配置成控制第一致动器装置以使第一准直器在第一和第二配置之间移动。

    X射线分析装置和方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118588518A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202410243265.8

    申请日:2024-03-04

    Abstract: 本发明涉及一种X射线分析装置和方法,该方法是用于分析样品的X射线方法。X射线分析装置包括X射线源,该X射线源包括阳极和阴极并且被配置为照射阳极的目标表面上的被照射的区域。X射线分析装置还包括转向装置、处理器和控制器。该转向装置被配置成定位阳极的目标表面上的该被照射的区域。处理器被配置为接收X射线分析信息,并基于X射线分析信息确定目标表面上的被照射的区域的位置变化。控制器被配置为根据由处理器确定的位置变化来控制转向装置以移动目标表面上的被照射的区域。

    用于X射线分析设备的样品安装系统

    公开(公告)号:CN114624268A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202111509458.6

    申请日:2021-12-10

    Abstract: 本申请涉及用于X射线分析设备的样品安装系统。样品安装系统包括样品保持器和样品载物台,样品载物台具有用于支撑样品保持器的平台。样品可以通过安装件固定到样品保持器。样品保持器包括保持器参照部分,该保持器参照部分与样品载物台的对应参照部分(载物台参照部分)配合,以将样品保持器与样品载物台对准。当样品保持器被定位在平台上使得载物台参照部分和保持器参照部分彼此接合时,样品保持器与样品载物台对准。

    用于X射线的样品保持器
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107643308B

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN201710593858.7

    申请日:2017-07-20

    Abstract: 提供了用于X射线分析的样品保持器。用于保持用于X射线分析的毛细管(40)的样品保持器(2)具有位于纵向狭缝(12)一侧的基座部分(14)上的第一热传递构件(36)和位于另一侧的基座部分(16)上的第二热传递构件(38)。在框架(30)与基座部分(14、16)之间在横向方向上压紧热传递构件(36、38),以促使第一热传递构件和第二热传递构件的边缘在一起,从而保持毛细管(40)与纵向狭缝(12)纵向地对齐。

    X射线分析设备和方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110389142A

    公开(公告)日:2019-10-29

    申请号:CN201910295269.X

    申请日:2019-04-12

    Abstract: 本申请涉及X射线分析设备和方法。一种X射线分析设备包括被配置成用入射X射线波束照射样品的X射线源。第一波束掩模部件被布置在X射线源和样品之间。第一波束掩模部件具有用于限制入射X射线波束的尺寸的第一开口。当第一波束掩模部件在第一配置中时,第一开口被布置在入射X射线波束中。第一波束掩模部件还包括第二开口。当第一波束掩模部件在第二配置中时,第二开口被布置在入射X射线波束中。第二开口不限制入射X射线波束的尺寸。控制器被配置成控制第一波束掩模部件致动器以通过在与入射X射线波束相交的平面中移动第一波束掩模部件来将第一波束掩模部件的配置在第一配置和第二配置之间进行改变。

    具有对光束发散度的混合控制的X射线分析装置及方法

    公开(公告)号:CN110376231A

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201910280993.5

    申请日:2019-04-09

    Abstract: 本申请涉及具有对光束发散度的混合控制的X射线分析装置及方法。该装置包括位于X射线源(4)和样品(6)之间的可调狭缝(210);和可选地另一狭缝(220,220a)。控制器(17)被配置成在第一宽度、更大的第二宽度和甚至更大的第三宽度之间控制可调狭缝的宽度。在第一宽度和第二宽度下:可调狭缝(210)限制入射光束的发散度,从而限制样品的被照射区域;并且另一狭缝(220)不限制入射光束的发散度。在第三宽度下:可调狭缝(210)不限制入射光束的发散度,并且另一狭缝(220)限制入射光束的发散度,从而限制样品的被照射区域。或者,在第三宽度下,可调狭缝(210)继续限制被照射区域。

    适应性强的X射线分析装置

    公开(公告)号:CN115728329A

    公开(公告)日:2023-03-03

    申请号:CN202211053916.4

    申请日:2022-08-31

    Abstract: 本发明涉及适应性强的X射线分析装置。X射线分析装置使用户能够执行多个X射线分析应用,以分析样品。该装置包括用于用X射线照射样品的X射线源,X射线源包括固体阳极和用于发射电子束的阴极。该装置还包括控制器和用于将电子束聚焦到阳极上的聚焦装置。控制器被配置为接收X射线分析应用信息,并基于X射线分析应用信息来控制X射线分析装置选择性地在第一X射线分析模式或第二X射线分析模式下操作。在第一X射线分析模式下,X射线源以第一操作功率操作,并且具有小于100μm的有效焦斑大小。在第二X射线分析模式下,X射线源以高于第一操作功率的第二操作功率操作,并且有效焦斑的面积大于在第一X射线分析模式下的有效焦斑的面积。

    X射线分析设备和方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110389142B

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN201910295269.X

    申请日:2019-04-12

    Abstract: 本申请涉及X射线分析设备和方法。一种X射线分析设备包括被配置成用入射X射线波束照射样品的X射线源。第一波束掩模部件被布置在X射线源和样品之间。第一波束掩模部件具有用于限制入射X射线波束的尺寸的第一开口。当第一波束掩模部件在第一配置中时,第一开口被布置在入射X射线波束中。第一波束掩模部件还包括第二开口。当第一波束掩模部件在第二配置中时,第二开口被布置在入射X射线波束中。第二开口不限制入射X射线波束的尺寸。控制器被配置成控制第一波束掩模部件致动器以通过在与入射X射线波束相交的平面中移动第一波束掩模部件来将第一波束掩模部件的配置在第一配置和第二配置之间进行改变。

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