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公开(公告)号:CN102781815B
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201080059070.4
申请日:2010-12-17
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00031 , B81B2203/0361 , B81B2207/056 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明涉及一种衬底表面,特别是光学元件上的锥形纳米结构、其制造方法及其特别是在光学装置、太阳能电池和传感器中的应用。依据本发明的锥形纳米结构特别适用于提供光反射非常小的衬底表面。依据本发明用于在衬底表面上制造锥形纳米结构的方法至少包括的步骤有:a)提供用纳米颗粒覆盖的衬底表面;b)蚀刻用纳米颗粒覆盖的衬底表面深度至少100nm,其中,纳米颗粒发挥蚀刻掩膜的作用并这样调节蚀刻参数,使纳米颗粒的下面形成双曲结构;c)通过施加机械力在在最小直径的区域内断开双曲结构,其中,衬底表面上保留的结构具有锥形的形状,其基本上相当于单层双曲结构的一半。
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公开(公告)号:CN103747870B
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201280037616.5
申请日:2012-07-27
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会
IPC: B01J23/38 , B01J23/89 , B01J37/00 , B01J37/02 , B01J37/08 , B01J37/18 , B01J37/34 , C03C17/00 , G03F7/00 , B81C1/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00
CPC classification number: B01D53/94 , B01D53/944 , B01D2255/1021 , B01D2255/1025 , B01D2255/106 , B01D2255/20753 , B01J21/08 , B01J23/38 , B01J23/464 , B01J23/52 , B01J23/89 , B01J23/892 , B01J35/0013 , B01J35/06 , B01J35/1057 , B01J37/0018 , B01J37/0219 , B01J37/082 , B01J37/18 , B01J37/349 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/10 , C03C2218/32 , H01M4/8657 , H01M4/8803 , H01M4/8842 , H01M4/8882 , H01M4/9041 , H01M4/921 , H01M8/0662 , H01M8/0668 , Y02E60/50
Abstract: 本发明涉及一种制备用热稳定金属合金纳米颗粒结构化的基材表面的方法,其包括:-提供两性分子在适当的溶剂中的胶束溶液;-用第一金属盐的金属离子装载所述胶束溶液的胶束;-用至少一种第二金属盐的金属离子装载所述胶束溶液的胶束;-将负载金属离子的胶束溶液沉积在基材表面上,以形成包含区域的有序阵列的薄膜;-通过等离子体处理来共还原沉积区域中所包含的金属离子,以形成由用于在基材表面上装载胶束的金属的合金构成的纳米颗粒的有序阵列。本发明还提供由所述方法得到的纳米结构化基材表面,以及所述纳米结构化基材表面作为催化剂的用途。
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公开(公告)号:CN104619631B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201380025597.9
申请日:2013-05-15
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会
CPC classification number: B01J19/0046 , B01J2219/00596 , B05D3/06 , B05D3/068 , B81B2207/056 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0198 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C23C18/06 , C23C18/08 , G03F1/68 , Y10T428/24893
Abstract: 本发明提供用于增加衬底表面上聚合物胶束或纳米颗粒的阵列的有序度的方法,其包括:a)提供衬底表面上胶束或包覆有聚合物壳的纳米颗粒的有序阵列;以及b)通过在液体介质中超声处理将胶束或纳米颗粒的阵列退火,所述液体介质选自H2O、极性有机溶剂以及H2O和极性有机溶剂的混合物。在相关的方面,本发明提供由本发明的方法可得的胶束或纳米颗粒的高度有序阵列。
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公开(公告)号:CN104619631A
公开(公告)日:2015-05-13
申请号:CN201380025597.9
申请日:2013-05-15
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会
CPC classification number: B01J19/0046 , B01J2219/00596 , B05D3/06 , B05D3/068 , B81B2207/056 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0198 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C23C18/06 , C23C18/08 , G03F1/68 , Y10T428/24893
Abstract: 本发明提供用于增加衬底表面上聚合物胶束或纳米颗粒的阵列的有序度的方法,其包括:a)提供衬底表面上胶束或包覆有聚合物壳的纳米颗粒的有序阵列;以及b)通过在液体介质中超声处理将胶束或纳米颗粒的阵列退火,所述液体介质选自H2O、极性有机溶剂以及H2O和极性有机溶剂的混合物。在相关的方面,本发明提供由本发明的方法可得的胶束或纳米颗粒的高度有序阵列。
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公开(公告)号:CN102301479B
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:CN200980146632.6
申请日:2009-11-20
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会 , 意大利理工大学
CPC classification number: H01L29/0665 , B82Y10/00 , H01L29/0669 , H01L29/0673 , H01L31/0352 , H01L51/422
Abstract: 本发明涉及在基底表面上制造锚定纳米线的方法。根据本发明制造锚定纳米线的方法不包括气相沉积步骤,而是至少包括以下步骤:a)提供具有预定二维几何排列的纳米颗粒或纳米团簇的基底表面;b)将具有纳米颗粒或纳米团簇的基底表面与至少一种形成纳米线的材料的溶液接触,其中形成纳米线的材料选择性地沉积在纳米颗粒或纳米团簇上,并在此进一步生长。根据本发明的方法优选还包括在步骤a)中通过将基底表面与种子材料的溶液接触以使种子材料选择性地沉积在纳米颗粒或纳米团簇上从而将种子材料施加在纳米颗粒或纳米团簇上;以及在步骤b)中使形成纳米线的材料选择性地沉积在具有种子材料的纳米颗粒或纳米团簇上,并在此进一步生长。
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公开(公告)号:CN102781815A
公开(公告)日:2012-11-14
申请号:CN201080059070.4
申请日:2010-12-17
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00031 , B81B2203/0361 , B81B2207/056 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明涉及一种衬底表面,特别是光学元件上的锥形纳米结构、其制造方法及其特别是在光学装置、太阳能电池和传感器中的应用。依据本发明的锥形纳米结构特别适用于提供光反射非常小的衬底表面。依据本发明用于在衬底表面上制造锥形纳米结构的方法至少包括的步骤有:a)提供用纳米颗粒覆盖的衬底表面;b)蚀刻用纳米颗粒覆盖的衬底表面深度至少100nm,其中,纳米颗粒发挥蚀刻掩膜的作用并这样调节蚀刻参数,使纳米颗粒的下面形成双曲结构;c)通过施加机械力在在最小直径的区域内断开双曲结构,其中,衬底表面上保留的结构具有锥形的形状,其基本上相当于单层双曲结构的一半。
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公开(公告)号:CN102301479A
公开(公告)日:2011-12-28
申请号:CN200980146632.6
申请日:2009-11-20
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会 , 意大利理工大学
CPC classification number: H01L29/0665 , B82Y10/00 , H01L29/0669 , H01L29/0673 , H01L31/0352 , H01L51/422
Abstract: 本发明涉及在基底表面上制造锚定纳米线的方法。根据本发明制造锚定纳米线的方法不包括气相沉积步骤,而是至少包括以下步骤:a)提供具有预定二维几何排列的纳米颗粒或纳米团簇的基底表面;b)将具有纳米颗粒或纳米团簇的基底表面与至少一种形成纳米线的材料的溶液接触,其中形成纳米线的材料选择性地沉积在纳米颗粒或纳米团簇上,并在此进一步生长。根据本发明的方法优选还包括在步骤a)中通过将基底表面与种子材料的溶液接触以使种子材料选择性地沉积在纳米颗粒或纳米团簇上从而将种子材料施加在纳米颗粒或纳米团簇上;以及在步骤b)中使形成纳米线的材料选择性地沉积在具有种子材料的纳米颗粒或纳米团簇上,并在此进一步生长。
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公开(公告)号:CN103402908B
公开(公告)日:2016-08-31
申请号:CN201180049660.3
申请日:2011-10-12
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B29C59/002 , B81C99/009 , B81C2201/0149 , B82Y30/00 , G03F7/0002
Abstract: 本发明涉及一种特别在大面积上生产高度有序的纳米柱或纳米孔结构的改进方法,所述结构可用作NIL、热压印或注射成型工艺中的母模。所述方法涉及以下步骤:使用通过胶束嵌段共聚物纳米光刻工艺制成的金属纳米粒子的有序阵列装饰表面;以50?500nm的深度将主基底蚀刻,其中所述纳米粒子作为掩膜,并且由此制备了对应于所述纳米粒子位置的纳米柱或纳米锥的有序阵列;在结构化过程使用纳米结构化的母模或者模板。而且,已完成的纳米结构化的基底表面可以用作涂覆有连续的金属层的牺牲母模,并且然后将该母模蚀刻掉,以留下具有纳米孔的有序阵列的金属模板,其中所述纳米孔的有序阵列为纳米柱或纳米锥原始阵列的负阵列。
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公开(公告)号:CN103747870A
公开(公告)日:2014-04-23
申请号:CN201280037616.5
申请日:2012-07-27
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会
IPC: B01J23/38 , B01J23/89 , B01J37/00 , B01J37/02 , B01J37/08 , B01J37/18 , B01J37/34 , C03C17/00 , G03F7/00 , B81C1/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00
CPC classification number: B01D53/94 , B01D53/944 , B01D2255/1021 , B01D2255/1025 , B01D2255/106 , B01D2255/20753 , B01J21/08 , B01J23/38 , B01J23/464 , B01J23/52 , B01J23/89 , B01J23/892 , B01J35/0013 , B01J35/06 , B01J35/1057 , B01J37/0018 , B01J37/0219 , B01J37/082 , B01J37/18 , B01J37/349 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/10 , C03C2218/32 , H01M4/8657 , H01M4/8803 , H01M4/8842 , H01M4/8882 , H01M4/9041 , H01M4/921 , H01M8/0662 , H01M8/0668 , Y02E60/50
Abstract: 本发明涉及一种制备用热稳定金属合金纳米颗粒结构化的基材表面的方法,其包括:提供两性分子在适当的溶剂中的胶束溶液;用第一金属盐的金属离子装载所述胶束溶液的胶束;用至少一种第二金属盐的金属离子装载所述胶束溶液的胶束;将负载金属离子的胶束溶液沉积在基材表面上,以形成包含区域的有序阵列的薄膜;通过等离子体处理来共还原沉积区域中所包含的金属离子,以形成由用于在基材表面上装载胶束的金属的合金构成的纳米颗粒的有序阵列。本发明还提供由所述方法得到的纳米结构化基材表面,以及所述纳米结构化基材表面作为催化剂的用途。
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公开(公告)号:CN103402908A
公开(公告)日:2013-11-20
申请号:CN201180049660.3
申请日:2011-10-12
Applicant: 马克思-普朗克科学促进协会
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B29C59/002 , B81C99/009 , B81C2201/0149 , B82Y30/00 , G03F7/0002
Abstract: 本发明涉及一种特别在大面积上生产高度有序的纳米柱或纳米孔结构的改进方法,所述结构可用作NIL、热压印或注射成型工艺中的母模。所述方法涉及以下步骤:使用通过胶束嵌段共聚物纳米光刻工艺制成的金属纳米粒子的有序阵列装饰表面;以50-500nm的深度将主基底蚀刻,其中所述纳米粒子作为掩膜,并且由此制备了对应于所述纳米粒子位置的纳米柱或纳米锥的有序阵列;在结构化过程使用纳米结构化的母模或者模板。而且,已完成的纳米结构化的基底表面可以用作涂覆有连续的金属层的牺牲母模,并且然后将该母模蚀刻掉,以留下具有纳米孔的有序阵列的金属模板,其中所述纳米孔的有序阵列为纳米柱或纳米锥原始阵列的负阵列。
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