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公开(公告)号：CN100450647C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200480025061.8
申请日：2004-09-07
Applicant: 陶氏环球技术公司
IPC: B05D7/24 , C23C16/505 , C23C16/40
CPC classification number: C23C16/505 , C23C16/401 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/4697
Abstract: 本发明公开了一种使用辉光放电在基材上产生等离子聚合沉积的方法。在电极和对电极之间产生辉光放电。使平衡气体和四烷基原硅酸酯的混合物通过辉光放电流到基材上以便在基材上沉积作为光学透明涂层的涂层或产生表面改性。优选在大气压或近似大气压下进行的该方法可用于产生光学透明的无粉或几乎无粉的涂层。
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公开(公告)号：CN101048533A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200580037209.4
申请日：2005-10-06
Applicant: 陶氏环球技术公司
Inventor： A·M·加贝尔尼克 , C·A·兰伯特 , J·M·瓦拉科姆斯基 , L·M·阿尔特斯
CPC classification number: C23C16/0272 , B05D1/62 , B05D7/52 , B05D2201/00 , C08G77/26 , C23C16/402 , C23C16/45565 , C23C16/50 , Y10T428/31663
Abstract: 在有机聚合物基材的表面上通过大气压辉光放电沉积制备多层涂层的方法，方法的步骤包括沉积等离子体聚合的、光学透明的有机硅化合物的层(第一层)和其后在第二步骤中将聚合物硅氧烷或硅氧化物化合物的基本均匀层(第二层)沉积到该第一层的曝露表面上，其中多层涂层的厚度为至少2.0μm，和耐磨性展示在500次Tabor循环之后，根据ASTM D 1044，CS10F轮，500g重物测量的变化小于或等于20Δ雾度单位。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101031669A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200580032732.8
申请日：2005-09-02
Applicant: 陶氏环球技术公司
CPC classification number: B05D1/62 , B05D7/53 , B05D2201/00 , C08J7/123 , C23C16/0272 , C23C16/401
Abstract: 本发明提供在有机聚合物基材的表面上通过大气压等离子体沉积制备多层涂层的方法，方法的步骤包括在第一步骤中由气态混合物的大气压等离子体沉积，沉积等离子体聚合的，光学透明，高度粘附的有机硅化合物的层(第一层)到有机聚合物基材的表面上，该气态混合物包括有机硅试剂化合物和任选地氧化剂和其后在第二步骤中由气态混合物的大气压等离子体沉积，沉积硅氧化物化合物的基本均匀层(第二层)到该第一层的曝露表面上，该气态混合物包括氧化剂和有机硅试剂化合物，其中在气态混合物中氧化剂对有机硅试剂化合物的摩尔比在第二步骤中比在第一步骤中大。
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公开(公告)号：CN100432289C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN03803317.8
申请日：2003-02-03
Applicant: 陶氏环球技术公司
IPC: C23C16/509
Abstract: 叙述了一种通过电晕放电，在基底上建立等离子体聚合淀积层的方法。在电极和支持在基底上的反电极之间建立电晕放电。平衡气体和工作气体的混合物迅速地流经电极，通过电晕放电进行等离子体聚合，在基底上淀积出光学透明涂层。此方法优选在大气压或接近大气压的压力下实施，此方法可用来形成光学透明的无粉末或实际上无粉末的淀积层，它能够赋予基底以比如表面改性、抗化学性能和气体阻隔性能等性能。
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公开(公告)号：CN101048532A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200580037210.7
申请日：2005-10-19
Applicant: 陶氏环球技术公司
CPC classification number: C08J7/047 , B05D1/62 , B05D7/02 , B05D2201/02 , B05D2252/02 , C08J2369/00 , C08J2483/00 , C23C16/401
Abstract: 通过大气压辉光放电沉积从包括含硅化合物和氧化剂的气态混合物将等离子体聚合的有机硅氧烷、硅氧烷或硅氧化物沉积到有机聚合物基材的表面上的方法，其特征在于氧化剂包括N2O。
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公开(公告)号：CN1845797A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200480025061.8
申请日：2004-09-07
Applicant: 陶氏环球技术公司
IPC: B05D7/24 , C23C16/505 , C23C16/40
CPC classification number: C23C16/505 , C23C16/401 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/4697
Abstract: 本发明公开了一种使用辉光放电在基材上产生等离子聚合沉积的方法。在电极和对电极之间产生辉光放电。使平衡气体和四烷基原硅酸酯的混合物通过辉光放电流到基材上以便在基材上沉积作为光学透明涂层的涂层或产生表面改性。优选在大气压或近似大气压下进行的该方法可用于产生光学透明的无粉或几乎无粉的涂层。
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公开(公告)号：CN1628187A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN03803317.8
申请日：2003-02-03
Applicant: 陶氏环球技术公司
IPC: C23C16/509
CPC classification number: C23C16/45565 , B05D1/62 , C23C16/401 , C23C16/503 , C23C16/509 , C23C16/54
Abstract: 叙述了一种通过电晕放电，在基底上建立等离子体聚合淀积层的方法。在电极和支持在基底上的反电极之间建立电晕放电。平衡气体和工作气体的混合物迅速地流经电极，通过电晕放电进行等离子体聚合，在基底上淀积出光学透明涂层。此方法优选在大气压或接近大气压的压力下实施，此方法可用来形成光学透明的无粉末或实际上无粉末的淀积层，它能够赋予基底以比如表面改性、抗化学性能和气体阻隔性能等性能。
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