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公开(公告)号：CN101048532A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200580037210.7
申请日：2005-10-19
申请人： 陶氏环球技术公司
CPC分类号： C08J7/047 , B05D1/62 , B05D7/02 , B05D2201/02 , B05D2252/02 , C08J2369/00 , C08J2483/00 , C23C16/401
摘要： 通过大气压辉光放电沉积从包括含硅化合物和氧化剂的气态混合物将等离子体聚合的有机硅氧烷、硅氧烷或硅氧化物沉积到有机聚合物基材的表面上的方法，其特征在于氧化剂包括N2O。
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公开(公告)号：CN101031669A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200580032732.8
申请日：2005-09-02
申请人： 陶氏环球技术公司
CPC分类号： B05D1/62 , B05D7/53 , B05D2201/00 , C08J7/123 , C23C16/0272 , C23C16/401
摘要： 本发明提供在有机聚合物基材的表面上通过大气压等离子体沉积制备多层涂层的方法，方法的步骤包括在第一步骤中由气态混合物的大气压等离子体沉积，沉积等离子体聚合的，光学透明，高度粘附的有机硅化合物的层(第一层)到有机聚合物基材的表面上，该气态混合物包括有机硅试剂化合物和任选地氧化剂和其后在第二步骤中由气态混合物的大气压等离子体沉积，沉积硅氧化物化合物的基本均匀层(第二层)到该第一层的曝露表面上，该气态混合物包括氧化剂和有机硅试剂化合物，其中在气态混合物中氧化剂对有机硅试剂化合物的摩尔比在第二步骤中比在第一步骤中大。
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公开(公告)号：CN101208242A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200680022932.X
申请日：2006-06-16
申请人： 陶氏环球技术公司
IPC分类号： B65D27/04 , C08L51/00 , C09D151/00
CPC分类号： B32B27/08 , B32B27/302 , B32B2307/412 , B32B2307/518 , B32B2325/00 , B32B2551/00 , C08L51/003 , C08L51/04 , C09D151/003 , C09D151/04 , C08L2666/02 , C08L2666/04
摘要： 一种开窗信封，其包括由低光泽度聚合物膜形成的窗口补丁，所述聚合物膜基于橡胶改性的乙烯基芳族聚合物或橡胶改性的乙烯基芳族聚合物与乙烯基芳族聚合物的掺合物。该膜可以是单层膜或多层膜的外层。该膜任选包括无机涂层，当所述膜为单层膜时，将该无机涂层涂在膜的任一表面上，或当所述膜为多层膜的外层时，将其涂在膜的最外层表面上。当将无机涂层涂在膜表面上时，该膜不需包括橡胶改性的乙烯基芳族聚合物，且可以唯一地基于乙烯基芳族聚合物。
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公开(公告)号：CN101048533A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200580037209.4
申请日：2005-10-06
申请人： 陶氏环球技术公司
发明人： A·M·加贝尔尼克 , C·A·兰伯特 , J·M·瓦拉科姆斯基 , L·M·阿尔特斯
CPC分类号： C23C16/0272 , B05D1/62 , B05D7/52 , B05D2201/00 , C08G77/26 , C23C16/402 , C23C16/45565 , C23C16/50 , Y10T428/31663
摘要： 在有机聚合物基材的表面上通过大气压辉光放电沉积制备多层涂层的方法，方法的步骤包括沉积等离子体聚合的、光学透明的有机硅化合物的层(第一层)和其后在第二步骤中将聚合物硅氧烷或硅氧化物化合物的基本均匀层(第二层)沉积到该第一层的曝露表面上，其中多层涂层的厚度为至少2.0μm，和耐磨性展示在500次Tabor循环之后，根据ASTM D 1044，CS10F轮，500g重物测量的变化小于或等于20Δ雾度单位。
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