用无压或低压气体烧结法制备的致密自增强氮化硅陶瓷

    公开(公告)号:CN1064260A

    公开(公告)日:1992-09-09

    申请号:CN92101117.2

    申请日:1992-02-18

    发明人: A·J·皮兹克

    IPC分类号: C04B35/58 C04B35/64

    摘要: 由无压烧结或低压气体烧结制备的致密的自增强氮化硅陶瓷,其组成包括(a)氮化硅,其中至少有20%是高平均纵横比的β—氮化硅形式;(b)2—10%(重量)的玻璃态晶界相,含氧化镁、氧化钇、二氧化硅、氧化锆,并且还可含选自氧化钙、氧化镓、氧化铟和氧化铪的一种氧化物;(c)氧化锆第二结晶相,其量为0.5—5.0%(重量);(d)金属硅化锆和/或金属氮化硅锆的结晶相,其总量为0.1—3.0%(重量)。该陶瓷呈现高断裂韧性和高断裂强度,密度至少为理论值的98%。