-
公开(公告)号：CN116096677A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202180056082.X
申请日：2021-09-06
Applicant: 阪田油墨株式会社
IPC: C01G23/00
Abstract: 本发明提供一种能够在简便的条件下制造分散性优异的钛酸锶微粒的钛酸锶微粒的制造方法。所述钛酸锶微粒的制造方法包括在肼或酰肼化合物的存在下并且在pH为12以上、反应温度为150℃以上且250℃以下、反应时间为0.5小时以上且2小时以下的条件下使有机钛酸酯与锶化合物进行反应的反应工序，并且上述肼或酰肼化合物相对于上述有机钛酸酯的摩尔比、即肼或酰肼化合物/有机钛酸酯为10～75。
-
公开(公告)号：CN112955514B
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN201980071364.X
申请日：2019-10-09
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种皮膜形成用组合物，其在保存期间的稳定性和显影性优良且在通过涂布而形成固化皮膜的情况下与透光性基板或电极的密合性和透明性优良，即使是薄膜也有高绝缘性。本发明的所述组合物的特征在于包含满足下述条件1的聚硅氧烷化合物、分子内不含硅的聚硫醇化合物、聚合引发剂和有机溶剂。条件1为构成所述聚硅氧烷化合物的材料包含：选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(A)，选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(B)，以及具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷系化合物(C)。
-
公开(公告)号：CN114430767B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202080066096.5
申请日：2020-08-11
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明提供一种皮膜形成用组合物，其在光刻法中利用时在曝光部形成的固化皮膜难以被显影液所溶解或侵蚀并且与触控面板等透光性基板、ITO电极、金属电极之间具有优异的密合性，未曝光部的未固化的皮膜即使相对于稀碱显影液也容易溶解并能快速去除，能形成适当膜厚的绝缘性皮膜。本发明涉及皮膜形成用组合物，其特征在包含具有下列通式(A)的结构的硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，p与q之比为1:0.8至1:2.4。其中，在下列通式(A)中，X具有下列通式(B)的结构，p和q表示整数；在下列通式(B)中，Y是具有自由基聚合性双键的一价取代基，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数；
-
公开(公告)号：CN115145113A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210279480.4
申请日：2022-03-21
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明提供一种显影性优异、即使加厚固化皮膜的膜厚也能抑制固化收缩并且形成硬度高的固化皮膜的皮膜形成用组合物。该皮膜形成用组合物包含硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂、固化剂、光产酸剂、固化催化剂及有机溶剂；硅氧烷聚合物包含硅烷类化合物(A)、(B)及(C)作为构成单体，硅烷类化合物(A)在分子中包含具有酰胺键以及羧酸部分或羧酸酯部分或者其两者的有机基团，硅烷类化合物(B)具有自由基聚合性不饱和双键，硅烷类化合物(C)在分子内具有环氧基；硅烷类化合物(A)与硅烷类化合物(B)的摩尔比为1:0.8至1:2.4；硅烷类化合物(C)相对于构成上述硅氧烷聚合物的构成单体的全体的摩尔比为0.07～0.50。
-
公开(公告)号：CN114430767A
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202080066096.5
申请日：2020-08-11
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明提供一种皮膜形成用组合物，其在光刻法中利用时在曝光部形成的固化皮膜难以被显影液所溶解或侵蚀并且与触控面板等透光性基板、ITO电极、金属电极之间具有优异的密合性，未曝光部的未固化的皮膜即使相对于稀碱显影液也容易溶解并能快速去除，能形成适当膜厚的绝缘性皮膜。本发明涉及皮膜形成用组合物，其特征在包含具有下列通式(A)的结构的硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，p与q之比为1:0.8至1:2.4。其中，在下列通式(A)中，X具有下列通式(B)的结构，p和q表示整数；在下列通式(B)中，Y是具有自由基聚合性双键的一价取代基，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数；
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116096677B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202180056082.X
申请日：2021-09-06
Applicant: 阪田油墨株式会社
IPC: C01G23/00
Abstract: 本发明提供一种能够在简便的条件下制造分散性优异的钛酸锶微粒的钛酸锶微粒的制造方法。所述钛酸锶微粒的制造方法包括在肼或酰肼化合物的存在下并且在pH为12以上、反应温度为150℃以上且250℃以下、反应时间为0.5小时以上且2小时以下的条件下使有机钛酸酯与锶化合物进行反应的反应工序，并且上述肼或酰肼化合物相对于上述有机钛酸酯的摩尔比、即肼或酰肼化合物/有机钛酸酯为10～75。
-
公开(公告)号：CN117069942A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310418938.4
申请日：2023-04-19
Applicant: 阪田油墨株式会社
IPC: C08G77/20 , C09D183/06 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种聚硅氧烷类化合物，由其能够获得粘附性优异的固化皮膜，并且其显影性和光固化性优异。所述聚硅氧烷类化合物至少包含：来自选自四烷氧基硅烷和双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃中的至少一种硅烷类化合物(A)的结构单元(A)，来自选自烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷中的至少一种硅烷类化合物(B)的结构单元(B)，以及来自具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷类化合物(C)的结构单元(C)。所述聚硅氧烷类化合物的由下述式(1)算出的构成比率大于0且小于0.1，(MC)/(MA+MB)(1)。该式(1)中，MA表示所述结构单元(A)的摩尔数，MB表示所述结构单元(B)的摩尔数，MC表示所述结构单元(C)的摩尔数。
-
公开(公告)号：CN117075425A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310425473.5
申请日：2023-04-20
Applicant: 阪田油墨株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种聚硅氧烷类组合物，由其能够获得粘附性优异的固化皮膜，并且其显影性和光固化性优异。所述聚硅氧烷类组合物中至少包含聚硅氧烷类化合物(A)和聚硅氧烷类化合物(B)，所述聚硅氧烷类化合物(A)至少包含来自硅烷类化合物(A)的结构单元(A)、来自硅烷类化合物(B)的结构单元(B)以及来自硅烷类化合物(C)的结构单元(C)，并且由下式(1)算出的构成比率为0.1以上且0.8以下，(MC)/(MA+MB)(1)。式(1)中MA、MB和MC分别表示所述结构单元(A)、(B)和(C)的摩尔数；所述聚硅氧烷类化合物(B)包含来自硅烷类化合物(D)的结构单元(D)，并且所述结构单元(D)在所述聚硅氧烷类化合物(B)整体中所占的摩尔比为50％以上；所述聚硅氧烷类化合物(A)与所述聚硅氧烷类化合物(B)的质量比为5:95～80:20。
-
-
公开(公告)号：CN112955514A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201980071364.X
申请日：2019-10-09
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种皮膜形成用组合物，其在保存期间的稳定性和显影性优良且在通过涂布而形成固化皮膜的情况下与透光性基板或电极的密合性和透明性优良，即使是薄膜也有高绝缘性。本发明的所述组合物的特征在于包含满足下述条件1的聚硅氧烷化合物、分子内不含硅的聚硫醇化合物、聚合引发剂和有机溶剂。条件1为构成所述聚硅氧烷化合物的材料包含：选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(A)，选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(B)，以及具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷系化合物(C)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.019 seconds)
