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公开(公告)号：CN112955514B
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN201980071364.X
申请日：2019-10-09
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种皮膜形成用组合物，其在保存期间的稳定性和显影性优良且在通过涂布而形成固化皮膜的情况下与透光性基板或电极的密合性和透明性优良，即使是薄膜也有高绝缘性。本发明的所述组合物的特征在于包含满足下述条件1的聚硅氧烷化合物、分子内不含硅的聚硫醇化合物、聚合引发剂和有机溶剂。条件1为构成所述聚硅氧烷化合物的材料包含：选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(A)，选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(B)，以及具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷系化合物(C)。
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公开(公告)号：CN112955514A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201980071364.X
申请日：2019-10-09
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种皮膜形成用组合物，其在保存期间的稳定性和显影性优良且在通过涂布而形成固化皮膜的情况下与透光性基板或电极的密合性和透明性优良，即使是薄膜也有高绝缘性。本发明的所述组合物的特征在于包含满足下述条件1的聚硅氧烷化合物、分子内不含硅的聚硫醇化合物、聚合引发剂和有机溶剂。条件1为构成所述聚硅氧烷化合物的材料包含：选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(A)，选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(B)，以及具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷系化合物(C)。
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公开(公告)号：CN114430767B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202080066096.5
申请日：2020-08-11
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明提供一种皮膜形成用组合物，其在光刻法中利用时在曝光部形成的固化皮膜难以被显影液所溶解或侵蚀并且与触控面板等透光性基板、ITO电极、金属电极之间具有优异的密合性，未曝光部的未固化的皮膜即使相对于稀碱显影液也容易溶解并能快速去除，能形成适当膜厚的绝缘性皮膜。本发明涉及皮膜形成用组合物，其特征在包含具有下列通式(A)的结构的硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，p与q之比为1:0.8至1:2.4。其中，在下列通式(A)中，X具有下列通式(B)的结构，p和q表示整数；在下列通式(B)中，Y是具有自由基聚合性双键的一价取代基，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数；
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公开(公告)号：CN114430767A
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202080066096.5
申请日：2020-08-11
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明提供一种皮膜形成用组合物，其在光刻法中利用时在曝光部形成的固化皮膜难以被显影液所溶解或侵蚀并且与触控面板等透光性基板、ITO电极、金属电极之间具有优异的密合性，未曝光部的未固化的皮膜即使相对于稀碱显影液也容易溶解并能快速去除，能形成适当膜厚的绝缘性皮膜。本发明涉及皮膜形成用组合物，其特征在包含具有下列通式(A)的结构的硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，p与q之比为1:0.8至1:2.4。其中，在下列通式(A)中，X具有下列通式(B)的结构，p和q表示整数；在下列通式(B)中，Y是具有自由基聚合性双键的一价取代基，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数；
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