一种抗损伤宽角度减反射复合微纳结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN114114474A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202111037089.5

    申请日:2021-09-06

    Abstract: 一种抗损伤宽角度减反射复合微纳结构及其制备方法,属于光学技术领域,为克服高深宽比一种抗损伤宽角度减反射复合微纳结构,在任意光学谱段进行构建,该结构由微结构单元阵列构成,微结构单元周期满足亚波长条件,每个微结构单元包括在光学材料基底表面制备的仿生蛾眼微纳结构和在蛾眼结构表面共性生长的复合保护膜层;仿生蛾眼微纳结构为圆台、圆锥或圆柱,复合保护层选用高透过率材料,将仿生蛾眼微纳结构包裹其中;蛾眼微纳结构所带来的抗环境损伤性能下降的问题,与单一的蛾眼结构相比,减反射复合微纳结构在正入射和宽角度保证透过率的情况下,达到减小深宽比和满占空比效果,使得微纳复合结构在基底表面排列紧凑,达到了一定的抗损伤效果。

    一种宽带宽角度抗反射复合微纳结构表面及其制备方法

    公开(公告)号:CN113740940B

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202111052850.2

    申请日:2021-09-06

    Abstract: 一种宽带宽角度复合微纳结构抗反射表面,属于光学技术和微纳加工技术领域,为了克服上述仿生蛾眼微纳结构表面技术中结构高度和深宽比对微纳加工工艺的制约,以及光学减反射薄膜技术中的减反射性能受到入射角度的限制,其为在光学材料基底表面形成单层薄膜,在薄膜层上形成一定深度的蛾眼微纳结构,并留出残余膜层,其由三层基本结构组成,依次包括:微纳结构层、中间残余层和基底层。所述微纳结构层由微纳结构单元阵列组成,微纳结构单元周期满足设计入射角度条件下的亚波长传输要求即:其中λmin表示最小入射波长,nsub表示基底折射率,n0表示空气折射率,θmax表示最大入射角度,p表示微纳结构单元周期。本发明在保证高透过率的同时对成像质量无影响。

    带有保护性结构的抗反射微纳结构表面及其制备方法

    公开(公告)号:CN114988349A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210585422.4

    申请日:2022-05-27

    Abstract: 带有保护性结构的抗反射微纳结构表面及其制备方法涉及微纳结构及制造领域,解决了现有技术对微纳结构不能得到保护的问题。该表面包括:基底、网栅结构和微纳结构;所述基底与微纳结构为一体化结构,网栅结构设置在所述基底上;所述网栅结构高于所述微纳结构。本发明对于各种微纳结构以及太阳能电池的保护,是从微观根本上实现抗损伤、抗污染以及超疏水性的特性。发明中结构的材料可以采用但不限于氧化层,在确保所用的材料具有一定硬度且光学性能适用于整体结构的情况下,结构均可以实现本发明所述的保护特性,且该结构制备流程简单,易于操作。

    一种宽带宽角度抗反射复合微纳结构表面及其制备方法

    公开(公告)号:CN113740940A

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN202111052850.2

    申请日:2021-09-06

    Abstract: 一种宽带宽角度复合微纳结构抗反射表面,属于光学技术和微纳加工技术领域,为了克服上述仿生蛾眼微纳结构表面技术中结构高度和深宽比对微纳加工工艺的制约,以及光学减反射薄膜技术中的减反射性能受到入射角度的限制,其为在光学材料基底表面形成单层薄膜,在薄膜层上形成一定深度的蛾眼微纳结构,并留出残余膜层,其由三层基本结构组成,依次包括:微纳结构层、中间残余层和基底层。所述微纳结构层由微纳结构单元阵列组成,微纳结构单元周期满足设计入射角度条件下的亚波长传输要求即:其中λmin表示最小入射波长,nsub表示基底折射率,n0表示空气折射率,θmax表示最大入射角度,p表示微纳结构单元周期。本发明在保证高透过率的同时对成像质量无影响。

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