改进的垂直结构光电探测器的制造方法

    公开(公告)号:CN108346711B

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201810129982.2

    申请日:2018-02-08

    Abstract: 本发明涉及半导体光电子技术领域,特别涉及一种改进的垂直结构光电探测器的制造方法,本发明通过将光电探测器芯片的下电极焊接在基板上,光电探测器芯片的上电极通过金丝连接到放大电路;本发明使光通过侧面进入本征I层不存在重掺杂死区和金属电极挡光问题,降低了光损失,减少了复合,提高了响应度,并且PN结在半导体体内,减小了探测器表面漏电流提高了光电探测器的反向击穿电压,同时,PN结面积主要为平行平面结面积,有效的减小了光电探测器总的PN结电容面积,减小了寄生RC时间常数,从而提高了器件的响应速度。

    改进的垂直结构光电探测器及制造方法

    公开(公告)号:CN108346711A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201810129982.2

    申请日:2018-02-08

    Abstract: 本发明涉及半导体光电子技术领域,特别涉及一种改进的垂直结构光电探测器及其制造方法,本发明通过将光电探测器芯片的下电极焊接在基板上,光电探测器芯片的上电极通过金丝连接到放大电路;本发明使光通过侧面进入本征I层不存在重掺杂死区和金属电极挡光问题,降低了光损失,减少了复合,提高了响应度,并且PN结在半导体体内,减小了探测器表面漏电流提高了光电探测器的反向击穿电压,同时,PN结面积主要为平行平面结面积,有效的减小了光电探测器总的PN结电容面积,减小了寄生RC时间常数,从而提高了器件的响应速度。

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