-
公开(公告)号:CN1294296C
公开(公告)日:2007-01-10
申请号:CN02811926.6
申请日:2002-06-17
申请人: 里普里索拉斯技术股份有限公司
摘要: 本发明涉及一种用于生产涉及微和超微结构的敷用物的电化学图案复制方法,ECPR,和导电极构造。用导电极,主电极(8)确定的蚀刻或电镀图案复制在导电材料,基材(9)上。主电极(8)与基材(9)紧密接触,并且使用接触蚀刻/电镀方法将蚀刻或电镀图案直接转移到基材(9)上。该接触蚀刻/电镀方法在主电极(8)与基材(9)之间闭合或开口的空穴里形成的局部蚀刻/电镀池(12,14)中进行。
-
公开(公告)号:CN1555428A
公开(公告)日:2004-12-15
申请号:CN02811926.6
申请日:2002-06-17
申请人: 里普里索拉斯技术股份有限公司
摘要: 本发明涉及一种用于生产涉及微和超微结构的敷用物的电化学图案复制方法,ECPR,和导电极构造。用导电极,主电极(8)确定的蚀刻或电镀图案复制在导电材料,基材(9)上。主电极(8)与基材(9)紧密接触,并且使用接触蚀刻/电镀方法将蚀刻或电镀图案直接转移到基材(9)上。该接触蚀刻/电镀方法在主电极(8)与基材(9)之间闭合或开口的空穴里形成的局部蚀刻/电镀池(12,14)中进行。
-