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公开(公告)号：CN102597299A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080049000.0
申请日：2010-09-02
Applicant: 通用显示公司
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/564
Abstract: 提供了一种装置。所述装置包括：喷嘴(310)、与所述喷嘴流体连通的载体气体源和有机分子源。所述装置还包括与所述喷嘴相邻设置的主动冷却系统(322)。优选地，所述装置还包括腔体，其中，所述喷嘴和所述主动冷却系统设置在所述腔体内。基底保持器也可以设置在所述腔体内，所述基底保持器适于将基底支承在所述喷嘴的下方，能够相对于所述喷嘴移动。优选地，基底由所述基底保持器保持，所述基底设置在距所述主动冷却系统0.1mm至10mm的距离处。优选地，所述装置还包括附接到所述喷嘴上的加热系统(350)。所述加热系统附接到所述喷嘴上的位置优选地包括距所述喷嘴的顶端为0至5mm的至少一个位置。
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公开(公告)号：CN102575335B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201080047080.6
申请日：2010-09-03
Applicant: 通用显示公司
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/56 , C23C14/564 , Y10T137/85954 , Y10T137/87249 , Y10T137/877
Abstract: 本申请提供了高生产量OVJP系统和方法，它们可以使用具有不同传导性的多个流动通路，以便能够在滞后时间相对较短的情况下沉积。高生产量的OVJP系统可以包括流动管，该流动管的截面面积比一个或多个孔(源材料可以在沉积过程中通过该孔排出)的直径大得多。使用这样的结构可以在滞后时间减小的情况下沉积。
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公开(公告)号：CN102597299B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201080049000.0
申请日：2010-09-02
Applicant: 通用显示公司
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/564
Abstract: 提供了一种装置。所述装置包括：喷嘴(310)、与所述喷嘴流体连通的载体气体源和有机分子源。所述装置还包括与所述喷嘴相邻设置的主动冷却系统(322)。优选地，所述装置还包括腔体，其中，所述喷嘴和所述主动冷却系统设置在所述腔体内。基底保持器也可以设置在所述腔体内，所述基底保持器适于将基底支承在所述喷嘴的下方，能够相对于所述喷嘴移动。优选地，基底由所述基底保持器保持，所述基底设置在距所述主动冷却系统0.1mm至10mm的距离处。优选地，所述装置还包括附接到所述喷嘴上的加热系统(350)。所述加热系统附接到所述喷嘴上的位置优选地包括距所述喷嘴的顶端为0至5mm的至少一个位置。
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公开(公告)号：CN102575335A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080047080.6
申请日：2010-09-03
Applicant: 通用显示公司
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/56 , C23C14/564 , Y10T137/85954 , Y10T137/87249 , Y10T137/877
Abstract: 本申请提供了高生产量OVJP系统和方法，它们可以使用具有不同传导性的多个流动通路，以便能够在滞后时间相对较短的情况下沉积。高生产量的OVJP系统可以包括流动管，该流动管的截面面积比一个或多个孔(源材料可以在沉积过程中通过该孔排出)的直径大得多。使用这样的结构可以在滞后时间减小的情况下沉积。
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