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公开(公告)号：CN119567314A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202411655904.8
申请日：2024-11-19
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明涉及机械臂控制技术领域，具体涉及了一种摆动式低频主动动力吸振装置及其控制系统与方法。包括摆臂机构、旋转机构以及旋转盘，所述摆臂机构包括摆锤、摆杆、摆臂电机、电机支架，所述摆臂机构包括第一摆臂机构和第二摆臂机构，对称设置在旋转盘上端，所述摆臂电机位于电机支架上端与电机支架固定连接，旋转盘位于电机支架下端并与电机支架固定连接，所述摆锤与摆杆法兰连接，所述摆杆与摆臂电机的电机轴连接，所述摆臂机构还包括支撑装置，所述支撑装置用于为电机轴提供支撑力；所述旋转机构包括旋转电机、刚性支撑结构以及底盘，所述旋转电机的电机轴与旋转盘固定连接，所述刚性支撑结构连接旋转盘和底盘。
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公开(公告)号：CN114959616B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202210725010.6
申请日：2022-06-23
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种高结晶性单相高熵氮化物涂层及其制备方法，属于涂层技术领域，该涂层包括的元素为Al、Cr、Ti、Nb、Hf和N，涂层为单一面心立方结构；该涂层的制备方法为：在Ar和N2气氛中，使用单极高功率脉冲磁控溅射的方法溅射Al25Cr25Ti25Nb25合金靶和使用双极高功率脉冲磁控溅射的方法溅射Hf金属靶，涂层沉积过程中，基体接地。本发明涂层为单一面心立方结构，结晶性强，符合高熵氮化物的强化标准。本发明涂层的制备方法无需对基体进行加热，可节省生产成本，另外，该方法可有效避免Ar离子加速引起的涂层残余压应力升高和高能离子流轰击引起的涂层生长速度降低。
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公开(公告)号：CN110500373B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201910793054.0
申请日：2019-08-27
Applicant: 贵州大学
IPC: F16F6/00
Abstract: 本发明公开了一种六面筒型分数槽集中绕组式主动吸振器，包括吸振器机架，在吸振器机架下方设置固定底板，在固定底板四个角设置固定螺栓，在固定底板下方设置隔振橡胶垫，在吸振器机架上方设置散热外壳，在散热外壳左端设置防尘左端盖，在散热外壳右端设置防尘右端盖，在在散热外壳内表面设置硅钢片，在硅钢片第一片齿上设置相线圈一，在A相线圈一侧方设置B相线圈一，在B相线圈一侧方设置C相线圈一，在C相线圈一侧方设置A相线圈二，在A相线圈二侧方设置B相线圈二，在B相线圈二侧方设置C相线圈二，在六组硅钢片围成的圆周内设置八个六边形永磁片基体，在六边形永磁片基体的六个外围表面分别设置永磁片，在六边形永磁片基体的中心设置动子轴，在动子轴螺纹端设置防松螺母，在防松螺母端面设置防松垫片，在八个六边形永磁片基体之间分别设置限位卡环，本发明往复频率高，制振响应迅速。
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公开(公告)号：CN111645104A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010542082.8
申请日：2020-06-15
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种大行程且可快速替换的四自由度刚柔耦合机械臂，包括线性滑台、电动旋转台、刚性臂和柔性臂，电动旋转台下端固定连接在线性滑台上的滑板上，上部通过刚性臂关节电机传动机构旋转连接到刚性臂一端，刚性臂另一端通过柔性臂关节电机传动机构旋转连接到柔性臂。本发明中采用拼接构成刚性臂，更易于降低刚性臂重量，惯量减小，更便于平衡刚性臂重量以及整个四自由度机械臂的控制，沿受力方向不容易变形，同时也会使关节结构更易于设计、制造和安装，在智能制造研究中的柔性机构运动规划与振动主动抑制中，关节结构可替换性更高，而且拼接式的机械臂使得关节结构设计简化，增加了传动效率和降低重量。
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公开(公告)号：CN110500373A
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201910793054.0
申请日：2019-08-27
Applicant: 贵州大学
IPC: F16F6/00
Abstract: 本发明公开了一种六面筒型分数槽集中绕组式主动吸振器，包括吸振器机架，在吸振器机架下方设置固定底板，在固定底板四个角设置固定螺栓，在固定底板下方设置隔振橡胶垫，在吸振器机架上方设置散热外壳，在散热外壳左端设置防尘左端盖，在散热外壳右端设置防尘右端盖，在在散热外壳内表面设置硅钢片，在硅钢片第一片齿上设置相线圈一，在A相线圈一侧方设置B相线圈一，在B相线圈一侧方设置C相线圈一，在C相线圈一侧方设置A相线圈二，在A相线圈二侧方设置B相线圈二，在B相线圈二侧方设置C相线圈二，在六组硅钢片围成的圆周内设置八个六边形永磁片基体，在六边形永磁片基体的六个外围表面分别设置永磁片，在六边形永磁片基体的中心设置动子轴，在动子轴螺纹端设置防松螺母，在防松螺母端面设置防松垫片，在八个六边形永磁片基体之间分别设置限位卡环，本发明往复频率高，制振响应迅速。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115233171B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN202210725009.3
申请日：2022-06-23
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种高熵超晶格氮化物涂层及其制备方法，属于涂层技术领域，该涂层包括周期性交替布置的AlCrTiNbN层和VN层。该涂层的制备方法为：在Ar和N2气氛中，使用高功率脉冲磁控溅射的方法溅射Al25Cr25Ti25Nb25合金靶和V单质靶，Al25Cr25Ti25Nb25合金靶和V单质靶，交替工作。本发明涂层在进一步提升涂层硬度的同时，通过超晶格界面之间的共格应变，增加涂层的断裂韧性和降低涂层残余压应力，另外，AlCrTiNbN层的金属原子比例符合高熵氮化物对金属空位元素的原子比例要求，既符合高熵氮化物的强化标准，也符合超晶格涂层对涂层断裂韧性提高的标准。本发明涂层的制备方法对设备的适用性强，可通过控制溅射脉冲的数量实现膜层纳米级别的调控和各膜层之间厚度比例的精确控制。
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公开(公告)号：CN114959616A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210725010.6
申请日：2022-06-23
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种高结晶性单相高熵氮化物涂层及其制备方法，属于涂层技术领域，该涂层包括的元素为Al、Cr、Ti、Nb、Hf和N，涂层为单一面心立方结构；该涂层的制备方法为：在Ar和N2气氛中，使用单极高功率脉冲磁控溅射的方法溅射Al25Cr25Ti25Nb25合金靶和使用双极高功率脉冲磁控溅射的方法溅射Hf金属靶，涂层沉积过程中，基体接地。本发明涂层为单一面心立方结构，结晶性强，符合高熵氮化物的强化标准。本发明涂层的制备方法无需对基体进行加热，可节省生产成本，另外，该方法可有效避免Ar离子加速引起的涂层残余压应力升高和高能离子流轰击引起的涂层生长速度降低。
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公开(公告)号：CN112281115A
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN202011193963.X
申请日：2020-10-30
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种低温下获得的晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层及其制备方法，属于涂层技术领域，该涂层使用高能脉冲磁控溅射沉积获得，涂层包括一种fcc‑(Al,Cr)2O3相(200)晶面；该涂层的制备方法为：基体前处理和加热；使用等离子清洗基体；用高能脉冲磁控溅射沉积晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层。本发明涂层制备温度低，硬度高，择优取向强，化学结构稳定。
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公开(公告)号：CN112239855A
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN202011198043.7
申请日：2020-10-30
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种无基体偏压下获得的刚玉和立方结构三氧化二铝铬混合相涂层及其制备方法，属于涂层技术领域，刚玉和立方结构三氧化二铝铬混合相涂层使用双极高能脉冲磁控溅射沉积获得，涂层包括一种α‑(Al,Cr)2O3相（104）晶面和一种fcc‑(Al,Cr)2O3相（200）晶面。该涂层的制备方法为：基体前处理和加热，使用等离子清洗基体，使用双极高能脉冲磁控溅射沉积刚玉和立方结构三氧化二铝铬混合相涂层。本发明涂层具有致密度高，化学稳定性好的特点，涂层制备方法可解决(Al,Cr)2O3涂层在偏压作用消失时的离子动量不足的问题。
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公开(公告)号：CN110449347A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201910787423.5
申请日：2019-08-23
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种机械式谷物分级与碎米率自动检测装置，包括装置机架，其特征在于：在装置机架顶端设置料斗，在装置机架下部设置横梁支架，在装置机架触地端设置地脚架，在料斗下端设置一级筛面，该一级筛面倾斜端与挡料薄片相连，在挡料薄片表面设置一级集米盒，在一级集米盒内部设置称重盒，在称重盒下方设置称重传感器，称重传感器通过固定夹片与一级集米盒底部刚性连接，在称重传感器侧方设置传感器接头螺母，在一级筛面正下方设置开槽光滑面，在开槽光滑面的正下方设置二级筛面，该二级筛面的倾斜端与二级集米盒相连，在二级筛面的正下方设置光滑面，光滑面的倾斜端与三级集米盒相连，在横梁支架上部设置电机固定板，在电机固定板中部设置激振电机，在横梁支架与装置机架连接处设置角座，其中，控制器组件通过导线与称重传感器和激振电机连接，本发明结构简单，实用性强。
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