一种发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN105070806B

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201510422501.3

    申请日:2015-07-17

    申请人: 贵州大学

    IPC分类号: H01L33/26 H01L33/00

    摘要: 本发明公开了一种发光二极管及其制备方法,它包括衬底,衬底的刻蚀处设置有n电极,衬底的上表面为n‑Mg2Si薄膜,n‑Mg2Si薄膜的上表面为p‑Mg2Si薄膜,p‑Mg2Si薄膜的上表面有p电极;其制备方法:清洗衬底并吹干;在衬底上利用溅射一层n‑Si膜;在n‑Si膜上利用磁控溅射方法溅射一层Mg膜;在Mg膜上利用磁控溅射方法溅射一层p‑Si膜;将溅射后的n‑Si、Mg和p‑Si膜进行退火处理,将衬底局部刻蚀;在衬底刻蚀处热蒸发Ag膜作为n电极层;在p‑Mg2Si薄膜上表面右端热蒸发金膜作为p电极层;解决了现有技术二极管对人体有害,回收成本高;出光效率较低;不利于工业化大批量生产等问题。

    一种发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN105070806A

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201510422501.3

    申请日:2015-07-17

    申请人: 贵州大学

    IPC分类号: H01L33/26 H01L33/00

    CPC分类号: H01L33/002 H01L33/26

    摘要: 本发明公开了一种发光二极管及其制备方法,它包括衬底,衬底的刻蚀处设置有n电极,衬底的上表面为n-Mg2Si薄膜,n-Mg2Si薄膜的上表面为p-Mg2Si薄膜,p-Mg2Si薄膜的上表面有p电极;其制备方法:清洗衬底并吹干;在衬底上利用溅射一层n-Si膜;在n-Si膜上利用磁控溅射方法溅射一层Mg膜;在Mg膜上利用磁控溅射方法溅射一层p-Si膜;将溅射后的n-Si、Mg和p-Si膜进行退火处理,将衬底局部刻蚀;在衬底刻蚀处热蒸发Ag膜作为n电极层;在p-Mg2Si薄膜上表面右端热蒸发金膜作为p电极层;解决了现有技术二极管对人体有害,回收成本高;出光效率较低;不利于工业化大批量生产等问题。

    一种红外探测器
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204332971U

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201520014583.3

    申请日:2015-01-09

    申请人: 贵州大学

    IPC分类号: H01L31/0216

    摘要: 本实用新型公开一种红外探测器,包括衬底,在衬底上表面设置Mg2Si薄膜,Mg2Si薄膜上表面连接上电极,在衬底下表面设置下电极,本实用新型所用的材料用资源丰富、毒性小、对生态的适应性高的元素,即对环境友好的半导体材料;能回收、再生利用、能源消耗少、对环境负荷小的半导体工艺;有助于能源和环境可持续发展的太阳能电池、热电变换元素等。