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公开(公告)号：CN108535681A
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201810110043.3
申请日：2018-02-05
Applicant: 西安电子科技大学
Abstract: 本发明提供了一种透过散射介质的目标4D跟踪系统及方法。解决了传统目标跟踪方法无法对遮挡物后的目标进行多维度跟踪的技术问题，系统包括：LED光源、透镜、目标、散射介质、滤光片和探测器。利用4D跟踪方法，首先，采集多幅散斑图像，对所有散斑图像进行消噪预处理，求出所有消噪散斑图像的自相关计算结果，结合相关系数运算算法，得到目标的旋转角度θ。根据自相关面积和物像关系求得目标沿光轴方向z的运动结果。接着根据自相关和互相关结果，求得目标在x和y方向上的运动结果。本发明的透过散射介质的目标4D跟踪系统结构简单，成本低，跟踪方法简单、跟踪精度高、适用范围广，在生物医学成像、军事、民事等领域具有广阔应用前景。
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公开(公告)号：CN108445719A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201810331541.0
申请日：2018-04-13
Applicant: 西安电子科技大学
Abstract: 本发明提供了一种散射介质可控3D数字无掩模光刻系统及方法。解决了重复设计掩模，焦深小和利用率低的问题。系统中的待测量部分依次接有第一分光棱镜、空间光调制器，第一显微物镜，散射介质，第二显微物镜，位移平台，第二分光棱镜，还附有参考支路。光刻方法中首先测得多波长光学传输矩阵，通过分块寻优得到对每个单色光均适用的通用光学传输矩阵，移动位移平台使用通用光学传输矩阵对待光刻3D目标切片聚焦标定后实施3D光刻。本发明仅需测得散射介质的通用光学传输矩阵及聚焦标定，即可实施3D光刻。通过改变光源波长提高光刻分辨率，系统复杂度和元件成本低、效率高且焦深大，用于超材料、微光学器件、微机电系统等众多领域。
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公开(公告)号：CN107014491A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710393207.3
申请日：2017-05-27
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: G01J3/44
CPC classification number: G01J3/4412
Abstract: 本发明涉及一种基于散射原理的光谱测量系统及方法。该系统包括：待测支路A、标定支路B、分光棱镜3、散射编码分系统C、探测器6；所述待测支路A与所述标定支路B均与所述分光棱镜3连接，所述分光棱镜3、所述散射编码分系统C及所述探测器6依次串行连接。本发明实施例避免了多次扫描或动镜驱动等，仅需要一次标定过程即可以完成不同信号光光谱测量，通过选择合适散射平均自由程的散射介质，系统的光谱分辨率可以在不增加系统复杂度等前提下最大限度提高。此外，本发明提出的光谱测量系统所需原件成本较低、结构简单且抗扰动能力强。
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公开(公告)号：CN105974430A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201610289924.7
申请日：2016-05-04
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: G01S17/66
CPC classification number: G01S17/66
Abstract: 本发明提出了一种基于随机介质表面散射光的运动目标跟踪系统及跟踪方法，用于解决现有运动目标跟踪系统及跟踪方法中存在适用范围较窄的技术问题，跟踪系统包括激光器、扩束器、旋转毛玻璃、随机介质、孔径光阑和探测器阵列；激光器发出的激光经扩束器和旋转毛玻璃后形成赝热光并照射到待跟踪运动目标上，随后携带目标信息的光以锐角入射到随机介质散射面，其散射光经孔径光阑滤除杂散光后被探测器阵列接收并采集，利用跟踪方法对采集图像进行计算得到待跟踪运动目标的实际位移。本发明利用随机介质表面散射光实现目标跟踪，具有适用范围宽的特点，且算法简单、跟踪精度高、系统结构简单，可用于生物医学、对地观测等领域。
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公开(公告)号：CN105974430B
公开(公告)日：2018-05-04
申请号：CN201610289924.7
申请日：2016-05-04
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: G01S17/66
Abstract: 本发明提出了一种基于随机介质表面散射光的运动目标跟踪系统及跟踪方法，用于解决现有运动目标跟踪系统及跟踪方法中存在适用范围较窄的技术问题，跟踪系统包括激光器、扩束器、旋转毛玻璃、随机介质、孔径光阑和探测器阵列；激光器发出的激光经扩束器和旋转毛玻璃后形成赝热光并照射到待跟踪运动目标上，随后携带目标信息的光以锐角入射到随机介质散射面，其散射光经孔径光阑滤除杂散光后被探测器阵列接收并采集，利用跟踪方法对采集图像进行计算得到待跟踪运动目标的实际位移。本发明利用随机介质表面散射光实现目标跟踪，具有适用范围宽的特点，且算法简单、跟踪精度高、系统结构简单，可用于生物医学、对地观测等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106200276A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610570539.X
申请日：2016-07-19
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2051
Abstract: 本发明提出了一种基于随机散射介质的可控亚波长无掩模光刻系统和方法，解决了光刻技术中成本高、时间效率低及分辨率低的技术问题。本发明利用空间光调制器Ⅰ生成目标图形，光波经空间光调制器Ⅰ后入射到随机散射介质表面，随机散射介质对光进行随机编码，再利用空间光调制器Ⅱ对随机散射介质产生的相位畸变进行补偿，最终实现透过散射介质的亚波长成像，形成任意可控亚波长“数字掩模”，进行投影曝光。本发明避免了掩模版的制作，极大地降低了光刻成本，利用随机散射介质的随机编码与空间光调制器的相位补偿相结合，提高了光刻分辨率，其中相位标定过程仅需一次，提高了光刻时间效率，从而实现了可控亚波长图形的无掩模光刻。
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公开(公告)号：CN108535681B
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201810110043.3
申请日：2018-02-05
Applicant: 西安电子科技大学
Abstract: 本发明提供了一种透过散射介质的目标4D跟踪系统及方法。解决了传统目标跟踪方法无法对遮挡物后的目标进行多维度跟踪的技术问题，系统包括：LED光源、透镜、目标、散射介质、滤光片和探测器。利用4D跟踪方法，首先，采集多幅散斑图像，对所有散斑图像进行消噪预处理，求出所有消噪散斑图像的自相关计算结果，结合相关系数运算算法，得到目标的旋转角度θ。根据自相关面积和物像关系求得目标沿光轴方向z的运动结果。接着根据自相关和互相关结果，求得目标在x和y方向上的运动结果。本发明的透过散射介质的目标4D跟踪系统结构简单，成本低，跟踪方法简单、跟踪精度高、适用范围广，在生物医学成像、军事、民事等领域具有广阔应用前景。
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公开(公告)号：CN108445719B
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201810331541.0
申请日：2018-04-13
Applicant: 西安电子科技大学
Abstract: 本发明提供了一种散射介质可控3D数字无掩模光刻系统及方法。解决了重复设计掩模，焦深小和利用率低的问题。系统中的待测量部分依次接有第一分光棱镜、空间光调制器，第一显微物镜，散射介质，第二显微物镜，位移平台，第二分光棱镜，还附有参考支路。光刻方法中首先测得多波长光学传输矩阵，通过分块寻优得到对每个单色光均适用的通用光学传输矩阵，移动位移平台使用通用光学传输矩阵对待光刻3D目标切片聚焦标定后实施3D光刻。本发明仅需测得散射介质的通用光学传输矩阵及聚焦标定，即可实施3D光刻。通过改变光源波长提高光刻分辨率，系统复杂度和元件成本低、效率高且焦深大，用于超材料、微光学器件、微机电系统等众多领域。
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公开(公告)号：CN107014491B
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201710393207.3
申请日：2017-05-27
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: G01J3/44
Abstract: 本发明涉及一种基于散射原理的光谱测量系统及方法。该系统包括：待测支路A、标定支路B、分光棱镜3、散射编码分系统C、探测器6；所述待测支路A与所述标定支路B均与所述分光棱镜3连接，所述分光棱镜3、所述散射编码分系统C及所述探测器6依次串行连接。本发明实施例避免了多次扫描或动镜驱动等，仅需要一次标定过程即可以完成不同信号光光谱测量，通过选择合适散射平均自由程的散射介质，系统的光谱分辨率可以在不增加系统复杂度等前提下最大限度提高。此外，本发明提出的光谱测量系统所需原件成本较低、结构简单且抗扰动能力强。
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公开(公告)号：CN106200276B
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201610570539.X
申请日：2016-07-19
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出了一种基于随机散射介质的可控亚波长无掩模光刻系统和方法，解决了光刻技术中成本高、时间效率低及分辨率低的技术问题。本发明利用空间光调制器Ⅰ生成目标图形，光波经空间光调制器Ⅰ后入射到随机散射介质表面，随机散射介质对光进行随机编码，再利用空间光调制器Ⅱ对随机散射介质产生的相位畸变进行补偿，最终实现透过散射介质的亚波长成像，形成任意可控亚波长“数字掩模”，进行投影曝光。本发明避免了掩模版的制作，极大地降低了光刻成本，利用随机散射介质的随机编码与空间光调制器的相位补偿相结合，提高了光刻分辨率，其中相位标定过程仅需一次，提高了光刻时间效率，从而实现了可控亚波长图形的无掩模光刻。
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