公开(公告)号：CN116419554B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202310321240.0

申请日：2023-03-29

Applicant: 西安工业大学

Inventor： 时凯 ,  苏俊宏 ,  梁海锋 ,  吴慎将 ,  徐均琪 ,  张祥伟 ,  吴涛 ,  李佳文 ,  解飞燕

IPC: H05K9/00

Abstract: 本发明公开了一种石墨烯精准叠加结构及其制备方法和应用，该结构由金属箔网栅层和石墨烯叠加层组成，其具有高透光性和强电磁屏蔽性能，能够多次吸收和反射电磁波，有效地提高传统金属结构的电磁屏蔽性能。该结构的制备方法利用激光束刻蚀工艺，在石墨烯叠加层/金属箔表面精准地形成预设的刻蚀结构，得到与设计相符的石墨烯叠加结构。该方法严格控制每一层石墨烯的叠加工艺，根据表征结果消除缺陷，协同调控刻蚀结构，将金属图形化和石墨烯连续覆盖有机结合，操作简单，可控性强。该结构在高透光性兼备强电磁屏蔽的应用领域有广阔的前景。

公开(公告)号：CN116419554A

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202310321240.0

申请日：2023-03-29

Applicant: 西安工业大学

Inventor： 时凯 ,  苏俊宏 ,  梁海锋 ,  吴慎将 ,  徐均琪 ,  张祥伟 ,  吴涛 ,  李佳文 ,  解飞燕

IPC: H05K9/00

Abstract: 本发明公开了一种石墨烯精准叠加结构及其制备方法和应用，该结构由金属箔网栅层和石墨烯叠加层组成，其具有高透光性和强电磁屏蔽性能，能够多次吸收和反射电磁波，有效地提高传统金属结构的电磁屏蔽性能。该结构的制备方法利用激光束刻蚀工艺，在石墨烯叠加层/金属箔表面精准地形成预设的刻蚀结构，得到与设计相符的石墨烯叠加结构。该方法严格控制每一层石墨烯的叠加工艺，根据表征结果消除缺陷，协同调控刻蚀结构，将金属图形化和石墨烯连续覆盖有机结合，操作简单，可控性强。该结构在高透光性兼备强电磁屏蔽的应用领域有广阔的前景。