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公开(公告)号：CN113561035B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202110873692.0
申请日：2021-07-30
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开了一种点云交变磁流变抛光装置及方法，包括：工装，平面光学元件，柔性抛光模，柔性抛光模的底端可移动设置在非导磁材料支撑板上，柔性抛光模的顶部与平面光学元件的底面接触；电磁铁磁场源，电磁铁磁场源包括多个阵列设置的电磁铁，多个电磁铁固定在非导磁材料支撑板的底面，相邻两个电磁铁通过铜线串接；本发明采用电磁铁作为励磁源用于驱动柔性抛光模的运动，柔性抛光模受到电磁铁磁场吸引力，就会顺着电磁铁产生磁场的顺序快速移动，进而柔性抛光模与平面光学元件表面具有了相对运动，形成剪切力，达到塑性去除平面光学元件的目的。
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公开(公告)号：CN113561035A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110873692.0
申请日：2021-07-30
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开了一种点云交变磁流变抛光装置及方法，包括：工装，平面光学元件，柔性抛光模，柔性抛光模的底端可移动设置在非导磁材料支撑板上，柔性抛光模的顶部与平面光学元件的底面接触；电磁铁磁场源，电磁铁磁场源包括多个阵列设置的电磁铁，多个电磁铁固定在非导磁材料支撑板的底面，相邻两个电磁铁通过铜线串接；本发明采用电磁铁作为励磁源用于驱动柔性抛光模的运动，柔性抛光模受到电磁铁磁场吸引力，就会顺着电磁铁产生磁场的顺序快速移动，进而柔性抛光模与平面光学元件表面具有了相对运动，形成剪切力，达到塑性去除平面光学元件的目的。
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公开(公告)号：CN107063161A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710324992.7
申请日：2017-05-10
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01B21/20
CPC classification number: G01B21/20
Abstract: 本发明提供一种自由曲面光学元件的面形检测装置和检测方法，该装置包括两个高精度直线运动轴、一个高精度旋转轴、真空吸盘和精密探针。该方法是将被测自由曲面的面型方程输入至计算机中，得到其极坐标表示方式；检测时，利用直线运动轴控制径向方向的半径与矢高，利用旋转轴控制角度方向的位置，三轴协同运动，使精密探针沿着待测自由曲面表面作螺旋线运动；同时，利用精密探针测量各个位置的实际矢高值，其与该位置理论矢高值的偏差便为该位置的面形误差，测得多个极坐标位置点的面形误差，再利用Zernike多项式拟合，便可得到整个面的面形误差分布。这为自由曲面光学元件的面形测量提供了一种有效的方法，在光学元件制造领域有着较大的工程应用价值。
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公开(公告)号：CN114415317B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202210075178.7
申请日：2022-01-22
Applicant: 西安工业大学
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明公开了一种自由曲面光学元件定位方法和装置，是一种方便、易实施、精度高、非接触的自由曲面光学元件定位方法和装置。装置包括机座和自由曲面光学元件定位光路，将自由曲面光学元件放置于机座上，根据利用自由曲面光学元件定位光路产生的光斑进行自由曲面光学元件的位置调整，实现定位。采用本发明方法可以实现加工、检测甚至后续装调基准的统一，实现自由曲面光学元件高精度加工、检测、装调基准的一致性控制，保证最终的光学系统性能。
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公开(公告)号：CN114415317A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210075178.7
申请日：2022-01-22
Applicant: 西安工业大学
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明公开了一种自由曲面光学元件定位方法和装置，是一种方便、易实施、精度高、非接触的自由曲面光学元件定位方法和装置。装置包括机座和自由曲面光学元件定位光路，将自由曲面光学元件放置于机座上，根据利用自由曲面光学元件定位光路产生的光斑进行自由曲面光学元件的位置调整，实现定位。采用本发明方法可以实现加工、检测甚至后续装调基准的统一，实现自由曲面光学元件高精度加工、检测、装调基准的一致性控制，保证最终的光学系统性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109514384A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201811317107.3
申请日：2018-11-07
Applicant: 西安工业大学
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B41/04
Abstract: 本发明提出一种非球面光学元件的抛光方法和装置，可大大降低设备的精度要求，易于实现，加工效率可以得到大幅提高。本发明抛光方法采用柱状抛光头进行高速旋转抛光，所述抛光头的轮廓线方程与被加工非球面光学元件过顶点的截面线方程一致，高速旋转过程中，抛光头轮廓线与被加工非球面光学元件过顶点的轮廓线为线接触方式，其装置包括抛光头、用于旋转抛光头的旋转组件和用于固定工件的固定器；所述的抛光头为中心设置有通孔的柱状体，其圆周面上的外轮廓线方程与被加工非球面光学元件过顶点的截面线方程一致，抛光头的圆周面上粘接有研磨抛光材料；抛光头通过旋转组件使其旋转，工件通过固定器固定，工件和抛光头的圆周面外轮廓接触。
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公开(公告)号：CN109015393A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201810898314.6
申请日：2018-08-08
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域，具体涉及一种光学元件超光滑表面的抛光装置及抛光方法。来克服现有技术存在的抛光效率低，需高精度数控机床控制，以及大面积去除出现波度误差的情况。本抛光装置为轴对称结构，包括管道和中间供液的磨头，磨头下端的抛光面为平面，沿圆心在抛光面上等间距设置有数个环状沟槽，环状沟槽分布于抛光面的外圆处；管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液为牛顿流体，在压力的作用下抛光液从磨头中心向四周流动，在磨头的抛光面与工件之间形成液膜将磨头与工件隔离开，磨头漂浮在工件表面上，流体流经抛光区域，在抛光面的凹槽处形成涡流，斜入射到工件表面，对工件表面产生剪切力，实现材料的去除。
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公开(公告)号：CN108907906A
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201810907288.9
申请日：2018-08-08
Applicant: 西安工业大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域，具体涉及一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法。对光学玻璃实现高效率、高质量和低成本的加工。本发明的技术方案所用装置包括管道、中间供液的磨头和工作台，所述管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液经压力泵将抛光液导入到磨头内部，流经磨头抛光面与工作台上被加工件之间的抛光区域，在抛光区域流体形成的液膜将磨头托起，磨头在液体的作用下达到自平衡状态，流体在抛光区域以一定速度流动，在剪切力作用下流体出现剪切增稠现象，固态粒子将磨粒包裹其中，形成柔性固着磨料，形成类固体形态，对被加工件上的凸峰进行剪切，实现工件表面的去除。
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公开(公告)号：CN107473570A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710685054.X
申请日：2017-08-11
Applicant: 西安工业大学
IPC: C03B19/12
CPC classification number: C03B19/12
Abstract: 本发明公开了一种溶胶制备光学元件的装置及其制备方法，该装置包括溶胶准备装置、溶胶混合仓、溶胶搅拌器、高压气体发生器、激光照射装置、基片载台和计算机控制系统；原料准备装置与原料混合仓连通，原料搅拌器设置于原料混合仓中以进一步搅拌混合后的溶胶原料，高压气体发生器将混合后的溶胶原料通过其末端设置的喷嘴喷射至基片载台上方设置的基片上，基片上方正对设置激光照射装置。本发明的方法直接由溶胶制备光学元件，根据光学元件的不同种类完成溶胶原料配液混合、基片表面溶胶层覆膜和溶胶层激光烧结，进而完成元件制备。通过这种装置和方法制备的光学元件的形状大小可控，极大的节约了光学元件的制备时间、提高了光学元件的质量和精度。
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公开(公告)号：CN209140573U
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201821824667.3
申请日：2018-11-07
Applicant: 西安工业大学
IPC: B24B13/00 , B24B13/005
Abstract: 本实用新型提出一种光学元件用抛光装置，可大大降低设备的精度要求，易于实现，加工效率可以得到大幅提高。本实用新型采用的技术方案包括包括抛光头、用于旋转抛光头的旋转组件和用于固定工件的固定器；所述的抛光头为中心设置有通孔的柱状体，其圆周面上的外轮廓线方程与被加工非球面光学元件过顶点的截面线方程一致，抛光头的圆周面上粘接有研磨抛光材料；抛光头通过旋转组件使其旋转，工件通过固定器固定，工件和抛光头的圆周面外轮廓接触。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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