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公开(公告)号:CN118422145A
公开(公告)日:2024-08-02
申请号:CN202410530411.5
申请日:2024-04-29
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明属于涂层制备技术领域,具体涉及一种耐烧蚀难熔金属钽及其氮化物多层涂层的制备方法,包括以下步骤:采用磁控溅射工艺在难熔金属基底表面交替沉积Ta层和TaN层,形成Ta/TaN多层结构涂层,能够降低氮化物涂层内应力,提高涂层与金属基底之间的结合强度,阻断涂层柱状晶生长,使涂层组织致密化,能有效为基金属基底提供良好的防护,降低涂层的剥离难度,有助于提高难熔金属工件的耐磨性和抗高温氧化性。