一种三相纳米复合高熵薄膜及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116083870B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310363542.4

    申请日:2023-04-07

    Abstract: 本发明涉及薄膜材料技术领域,公开了一种三相纳米复合高熵薄膜及其制备方法和应用,所述的制备方法包括基材前处理及双靶磁控溅射共沉积两个步骤,所制备的薄膜为非晶高熵合金基体相/碳化物陶瓷相/非晶碳相的复合结构,该薄膜中高熵合金基体相的存在使其具有优异的韧性,纳米晶陶瓷相使其具有优异的强度,非晶碳相则提供优异的自润滑能力,在摩擦过程中的固体润滑机制主要为氧化物与非晶碳混合的界面润滑膜提供减摩性能,本发明公开的三相纳米复合薄膜具有优异的强韧性与自润滑性能;特别适合用于在极端工况下作业的机械零部件的防护。

    一种纳米双相高熵合金薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN113235051A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202110512506.0

    申请日:2021-05-11

    Abstract: 本发明公开了一种纳米双相高熵合金薄膜的制备方法,该制备方法包括基材前处理及高功率脉冲磁控溅射沉积两个步骤。采用高功率脉冲磁控溅射技术,以包括金属Cu在内的五种金属元素的拼接靶为靶材,以高纯Ar为工作气体,对前处理后的基体施加负偏压,对拼接靶施加靶电压,在基体表面沉积得到包含FCC基体相和富铜BCC纳米相的纳米双相高熵合金薄膜。该薄膜既体现了高熵合金薄膜高的固溶强化的特点,同时通过富铜相的析出引入大量相界面,使其具有界面强化机制。其硬度最高达13GPa,并且由于具有优异的韧性,对在高承载、高摩擦环境下作业的基体能起到良好的防护作用,具有很好的应用价值。

    一种用于平面圆形磁控溅射阴极靶的磁场源

    公开(公告)号:CN106435500B

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201610867923.6

    申请日:2016-09-30

    Inventor: 谢东 冷永祥 黄楠

    Abstract: 本发明公布了种用于平面圆形磁控溅射阴极靶的磁场源,该磁场源是由若干组串联的平行且同轴的平面径向螺旋线圈沿轴向层叠而成,每组平面径向螺旋线圈由承载电流不低于80A的漆包线沿同样的方向紧密绕制而成,每组平面径向螺旋线圈的半径和匝数相等。当通以电流时,该磁场源能够在平面圆形溅射靶表面产生沿径向辐射状且在很大范围内均匀分布的水平磁场分量。相比于传统磁控溅射靶的磁场源设计,本发明能够显著提高溅射靶表面“跑道环”面积,进而显著提高溅射靶材的利用率和薄膜制备的均匀性。

    一种在体内环境中具有磨损自修复功能的陶瓷生物材料制备方法

    公开(公告)号:CN105603286B

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201510976318.8

    申请日:2015-12-23

    Abstract: 本发明公开了一种在体内环境中具有磨损自修复功能的陶瓷生物材料制备方法,原料质量百分比为:氧化锆粉(或者氧化铝粉)90%~99%、金属粉1%~10%,原料放入行星式球磨机中湿法混合均匀并干燥后,在1100℃‑1800℃下进行惰性气体保护热压烧结0.5‑3小时即可。制得的陶瓷生物材料其中金属掺杂质量比例在1%‑10%,本发明生物材料在人体内作为摩擦配副(例如人工关节、人工椎间盘等)服役时,由于摩擦磨损及腐蚀,会在摩擦界面形成一层蛋白生物膜,随着摩擦的不断进行,该蛋白生物膜可以转变成石墨层,可有效地降低陶瓷生物材料摩擦、阻止材料的磨损。实现对陶瓷生物材料的磨损修复,使陶瓷生物材料在人体内具有良好的磨损自修复功能。

    一种提高陶瓷工件表面金属化表面性能的方法

    公开(公告)号:CN103360122B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201310250045.X

    申请日:2013-06-21

    Abstract: 本发明涉及一种提高陶瓷工件表面金属化表面性能的方法,运用高功率脉冲磁控溅射技术在陶瓷工件表面得到表面制备膜基结合力好、致密度高、耐腐蚀性强的金属化层。本发明方法工艺环保,可控性好、镀出的膜层能符合欧盟RoHS标准,且可根据需要得到不同材料的金属化层,溅射材料的适应性广,不受材料熔点高低的局限,溅射材料的高离化率可大幅度提高金属化层膜基结合强度、致密度和均匀性,改善陶瓷工件电学及耐腐蚀性。

    一种金属支架表面改性方法

    公开(公告)号:CN103924202A

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201410133352.4

    申请日:2014-04-03

    Abstract: 本发明涉及一种金属支架表面改性方法,属于金属表面改性技术领域。该方法有效利用高功率脉冲磁控溅射技术在金属支架表面沉积钛/氧化钛薄膜。其步骤为:首先,将金属支架放入高功率脉冲磁控溅射设备的真空室中,真空室抽真空至0.5×10-3Pa~2×10-3Pa;向真空室内通入氩气,溅射清洗金属支架及靶材;向真空室内通入氩气,通过调节溅射电压幅值、频率、脉宽、溅射气压及基体偏压等参数,运用高功率脉冲磁控溅射技术在金属支架表面制备高结合力的钛过渡层;最后,向真空室内通入氩气和氧气,通过调节溅射电压幅值、频率、脉宽、溅射气压及基体偏压等参数,在钛过渡层上制备结合紧密的氧化钛薄膜。主要用于金属支架的表面改性。

    一种提高陶瓷工件表面金属化表面性能的方法

    公开(公告)号:CN103360122A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201310250045.X

    申请日:2013-06-21

    Abstract: 本发明涉及一种提高陶瓷工件表面金属化表面性能的方法,运用高功率脉冲磁控溅射技术在陶瓷工件表面得到表面制备膜基结合力好、致密度高、耐腐蚀性强的金属化层。本发明方法工艺环保,可控性好、镀出的膜层能符合欧盟RoHS标准,且可根据需要得到不同材料的金属化层,溅射材料的适应性广,不受材料熔点高低的局限,溅射材料的高离化率可大幅度提高金属化层膜基结合强度、致密度和均匀性,改善陶瓷工件电学及耐腐蚀性。

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