公开(公告)号：CN106672974A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201611160207.0

申请日：2016-12-15

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 蒋淑兰 ,  余丙军 ,  钱林茂 ,  韩京辉 ,  钟方尚 ,  王丰

IPC: C01B33/021 ,  B82Y40/00

CPC classification number: C01B33/021 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/60 ,  C01P2004/90

Abstract: 本发明公开了一种制备硅微纳分级结构的新方法，包括以下步骤：S1、将清洗干净的硅片放入处于加热和搅拌状态的氢氧化钾和异丙醇混合溶液中进行刻蚀，获得尺寸和分布均匀的金字塔型硅微结构阵列；S2、在步骤S1获得的金字塔型硅微结构阵列表面集成粘附层/银纳米薄膜；S3、将经过步骤S2处理的样品放入含有卤素离子的盐溶液中进行点蚀反应，获得岛状银颗粒或多孔银膜；S4、将经过步骤S3处理的样品放入氢氟酸和过氧化氢的混合溶液中进行刻蚀，获得新型硅微纳分级结构。该制备方法具有成本低、操作简单、过程可控的优点，适于规模化生产，所得新型硅微纳结构具有很大的有效表面积，具有极强的实用价值，值得在内业推广。

公开(公告)号：CN106672974B

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201611160207.0

申请日：2016-12-15

Applicant: 西南交通大学

Inventor： 蒋淑兰 ,  余丙军 ,  钱林茂 ,  韩京辉 ,  钟方尚 ,  王丰

IPC: C01B33/021 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明公开了一种制备硅微纳分级结构的新方法，包括以下步骤：S1、将清洗干净的硅片放入处于加热和搅拌状态的氢氧化钾和异丙醇混合溶液中进行刻蚀，获得尺寸和分布均匀的金字塔型硅微结构阵列；S2、在步骤S1获得的金字塔型硅微结构阵列表面集成粘附层/银纳米薄膜；S3、将经过步骤S2处理的样品放入含有卤素离子的盐溶液中进行点蚀反应，获得岛状银颗粒或多孔银膜；S4、将经过步骤S3处理的样品放入氢氟酸和过氧化氢的混合溶液中进行刻蚀，获得新型硅微纳分级结构。该制备方法具有成本低、操作简单、过程可控的优点，适于规模化生产，所得新型硅微纳结构具有很大的有效表面积，具有极强的实用价值，值得在内业推广。