一种反射镜阵列空间光调制器芯片结构及其加工方法

    公开(公告)号:CN116300052A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310173932.5

    申请日:2023-02-28

    Abstract: 本发明提供了一种反射镜阵列空间光调制器芯片结构及其加工方法,涉及微光机电系统技术领域,本发明由多组等间距排列的微镜单元组成;所述微镜单元包括第一基底和第二基底;所述第一基底上设置有扭转梁和电气绝缘层,所述扭转梁下方开设有背腔,沿所述扭转梁中心轴线在所述电气绝缘层上对称分布设置有第一寻址电极和第二寻址电极,所述第一寻址电极和所述第二寻址电极上分布设有接触凸点;所述第二基底用于供操作人员加工镜面,在所述镜面上设有用于连接所述扭转梁的镜面锚点。本方法能够克服微镜阵列在光谱成像系统中光场匹配性差、固有扭转方式和阵列形式导致目标光学信息采集丢失的问题。

    一种二维微机械双向扭转镜阵列及其制作方法

    公开(公告)号:CN114408854B

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202111541499.3

    申请日:2021-12-16

    Abstract: 本发明涉及一种二维微机械双向扭转镜阵列及其制作方法,二维微机械双向扭转镜阵列包括电极基底以及设置在电极基底上的微镜单元,微镜单元包括微镜支撑结构层、通孔电极基底以及镜面结构层,微镜支撑结构层包括锚点、扭转梁、第一下电极以及第二下电极,通孔电极基底包括第一通孔电极、第二通孔电极以及第三通孔电极,第一通孔电极与第一下电极贴触,第二通孔电极与第二下电极贴触,所述第三通孔电极与锚点贴触,镜面结构层包括镜面以及镜面支撑结构,扭转梁通过其两端的锚点支撑并悬置于通孔电极基底上方,第一下电极和第二下电极关于扭转梁对称分布,改善了微镜阵列在光谱成像系统中的光场匹配性,简化了系统光路,促进了光谱成像系统小型化。

    一种基于DMD的光谱成像目标获取系统及方法

    公开(公告)号:CN112179289A

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN202010974588.6

    申请日:2020-09-16

    Abstract: 本发明涉及一种基于DMD的光谱成像目标获取系统及方法,该系统包括成像光路、位于成像光路物面处的目标、位于成像光路像面处的DMD、分光光路以及位于分光光路的像面处的探测器,成像光路和分光光路均包括光轴,DMD包括工作面,成像光路和分光光路的光轴均经过DMD的工作面的中心,DMD的工作面上包括n(n≥2)个处于“ON”状态的微镜扫描单元,DMD的工作面上的n个微镜扫描单元同时并行工作,其采集速度是单个微镜扫描单位采集速度的n倍,采集时间也缩短到原来的1/n,DMD上的多个微镜扫描单元可实现片上微观并行扫描,采集速度更是大大提高。

    一种MEMS微镜阵列制备方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117326521A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202311120416.2

    申请日:2023-09-01

    Inventor: 虞益挺 肖星辰

    Abstract: 本发明涉及一种新型的MEMS微镜阵列加工方法,包括:在第一基底表面沉积金属薄膜;完成第一寻址电极和第二寻址电极的制备;选取第二基底,去除表面存在的灰尘和有机物残留物;在第二基底上完成锚点、扭转支点的制备;继续刻蚀扭转支点,使其表面低于所述锚点,形成锚点和扭转支点的高度差;将第一基底和所述第二基底进行键合;在减薄后的第二基底上形成金属反射层;完成微镜结构的制作;将所述扭转支点下方的胶粘键合层去除,完成分立镜面的结构释放;本发明解决了MEMS微镜阵列制备过程中扭转支点与其下方基底键合粘连失效和减薄外力作用下悬浮薄膜破裂的工艺难题,实现了扭转支点和与其下方基底亚微米间隙的精准控制。

    一种MEMS扭转镜阵列的制作方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117105167A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202311011239.4

    申请日:2023-08-11

    Inventor: 虞益挺 肖星辰

    Abstract: 本发明提供一种MEMS扭转镜阵列的制作方法,包括:清洗第一基底;在第一基底上表面沉积第一金属薄膜,对第一金属薄膜进行刻蚀,形成第一寻址电极及第二寻址电极;清洗第二基底;在第二基底下表面刻蚀出临时锚点,同时完成扭转支点及永久锚点的蚀刻;进一步刻蚀扭转支点,使得扭转支点的高度小于临时锚点的高度;将第二基底下表面与第一基底上表面进行键合;减薄处理;在器件层上表面沉积第二金属薄膜,对第二金属薄膜进行刻蚀,形成金属反射层;将金属反射层作为掩膜,对第二基底和临时锚点进行刻蚀,去除临时锚点,获得分立镜面。本发明能防止制作过程中扭转支点与其下方基底键合粘连失效和减薄时外力作用下悬浮薄层破裂,制作简单。

    一种二维微机械双向扭转镜阵列及其制作方法

    公开(公告)号:CN114408854A

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202111541499.3

    申请日:2021-12-16

    Abstract: 本发明涉及一种二维微机械双向扭转镜阵列及其制作方法,二维微机械双向扭转镜阵列包括电极基底以及设置在电极基底上的微镜单元,微镜单元包括微镜支撑结构层、通孔电极基底以及镜面结构层,微镜支撑结构层包括锚点、扭转梁、第一下电极以及第二下电极,通孔电极基底包括第一通孔电极、第二通孔电极以及第三通孔电极,第一通孔电极与第一下电极贴触,第二通孔电极与第二下电极贴触,所述第三通孔电极与锚点贴触,镜面结构层包括镜面以及镜面支撑结构,扭转梁通过其两端的锚点支撑并悬置于通孔电极基底上方,第一下电极和第二下电极关于扭转梁对称分布,改善了微镜阵列在光谱成像系统中的光场匹配性,简化了系统光路,促进了光谱成像系统小型化。

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