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公开(公告)号：CN105531839B
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201480050371.9
申请日：2014-09-12
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 格温·埃尔马努斯·盖林克 , 艾伯特·乔斯·扬·马里·万布里曼 , 保卢斯·威廉默斯·玛丽亚·布洛姆
CPC classification number: H01L51/5209 , H01L27/3281 , H01L51/0035 , H01L51/5036 , H01L51/52 , H01L51/5225
Abstract: 多色发光二极管包括阳极电极层、阴极电极层以及发光层，该发光层介于所述电极层之间且与所述电极层接触，该发光层包括电致发光半导体材料与铁电材料的混合，并且其中所述电极层中的至少之一或两者与该电致发光半导体材料一起形成可调制注入势垒，其中该阳极电极层或阴极电极层中的至少一个由两个或多个颜色选择电极组成，并且其中所述两个或多个颜色选择电极中的每个包括不同的导电材料，用于使得在使用时能够发出具有取决于通电的相应电极的颜色的光。
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公开(公告)号：CN104756274B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201380055543.7
申请日：2013-06-14
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 贾斯珀·约斯特·迈克尔 , 保卢斯·威廉默斯·玛丽亚·布洛姆 , 乔治·托马斯·雅各布·格茨
CPC classification number: H01L51/5088 , C23C14/22 , C23C14/54 , H01L51/0037 , H01L51/42 , H01L51/44 , H01L51/5012 , H01L51/56 , H01L2251/5392 , H01L2251/568 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供了制造电光器件堆叠体(10)的方法，该方法包括：设置包括接触电荷注入层(12)的电光层(13)的多层结构，电荷注入层(12)包含酸性化合物(12m)；在电光层(13)上沉积抗蚀剂层(14)，抗蚀剂层(14)包含可阳离子交联的抗蚀剂材料(14m)；通过由来自电荷注入层(12)的质子(12p)而引发的交联反应来使抗蚀剂材料(14m)在与电光层(13)中的缺口(12’、13’)相邻处进行反应，由此用包含交联的抗蚀剂材料(14c)的补片(14p)来覆盖所述缺口(12’、13’)；以及去除抗蚀剂材料(14m)的没有交联的部分，其中补片(14p)被保留为布置成用于在电荷注入层(12)与后续沉积在电光层(13)和补片(14p)上的层之间提供电绝缘。
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公开(公告)号：CN105531839A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201480050371.9
申请日：2014-09-12
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 格温·埃尔马努斯·盖林克 , 艾伯特·乔斯·扬·马里·万布里曼 , 保卢斯·威廉默斯·玛丽亚·布洛姆
CPC classification number: H01L51/5209 , H01L27/3281 , H01L51/0035 , H01L51/5036 , H01L51/52 , H01L51/5225
Abstract: 多色发光二极管包括阳极电极层、阴极电极层以及发光层，该发光层介于所述电极层之间且与所述电极层接触，该发光层包括电致发光半导体材料与铁电材料的混合，并且其中所述电极层中的至少之一或两者与该电致发光半导体材料一起形成可调制注入势垒，其中该阳极电极层或阴极电极层中的至少一个由两个或多个颜色选择电极组成，并且其中所述两个或多个颜色选择电极中的每个包括不同的导电材料，用于使得在使用时能够发出具有取决于通电的相应电极的颜色的光。
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公开(公告)号：CN104756274A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201380055543.7
申请日：2013-06-14
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 贾斯珀·约斯特·迈克尔 , 保卢斯·威廉默斯·玛丽亚·布洛姆 , 乔治·托马斯·雅各布·格茨
CPC classification number: H01L51/5088 , C23C14/22 , C23C14/54 , H01L51/0037 , H01L51/42 , H01L51/44 , H01L51/5012 , H01L51/56 , H01L2251/5392 , H01L2251/568 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供了制造电光器件堆叠体(10)的方法，该方法包括：设置包括接触电荷注入层(12)的电光层(13)的多层结构，电荷注入层(12)包含酸性化合物(12m)；在电光层(13)上沉积抗蚀剂层(14)，抗蚀剂层(14)包含可阳离子交联的抗蚀剂材料(14m)；通过由来自电荷注入层(12)的质子(12p)而引发的交联反应来使抗蚀剂材料(14m)在与电光层(13)中的缺口(12’、13’)相邻处进行反应，由此用包含交联的抗蚀剂材料(14c)的补片(14p)来覆盖所述缺口(12’、13’)；以及去除抗蚀剂材料(14m)的没有交联的部分，其中补片(14p)被保留为布置成用于在电荷注入层(12)与后续沉积在电光层(13)和补片(14p)上的层之间提供电绝缘。
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