一种用于ITO玻璃抛光的研磨垫及其制备方法

    公开(公告)号:CN119489396A

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN202311032389.3

    申请日:2023-08-16

    Inventor: 杨辰 陈燕芳

    Abstract: 本发明公开了一种用于ITO玻璃抛光的研磨垫及其制备方法,研磨垫包括布层、阻尼布、压敏粘合剂、PET薄膜、胶层和磨料层,制备方法包括以下步骤:按比例完成磨料层混合物的搅拌混合,制得研磨料浆液;在涂覆机上铺设布层和阻尼布;在阻尼布上涂覆压敏粘合剂并铺设PET薄膜;在PET薄膜上涂覆胶层,并将S1中的混合浆均匀涂覆在胶层;加热固化,获得半成品;裁切获得成品。本发明在基层和磨料层之间设置有PET膜层,抗张强度和抗冲击强度,寿命长,气密性好,避免细小磨料颗粒外泄,本发明的研磨层表面设置为网格状,从而方便玻璃的碎屑以及研磨垫颗粒的排屑,本发明清洁能力强、刮伤零、寿命长、单片成本低。

    一种手机屏全自动上料焊接检测机及其使用方法

    公开(公告)号:CN119489237A

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN202311031655.0

    申请日:2023-08-16

    Inventor: 杨辰 陈燕芳

    Abstract: 本发明公开了一种手机屏全自动上料焊接检测机及其使用方法,包括压焊头、FPC整理治具、治具运载机构、FPC整理机构、上料定位机构、上下料直线电机搬送臂、CCD视觉对位机构、涂抹助焊剂机构、脉冲热压焊机构、焊盘清洁机构、AOI检测/测高机构、下料搬送臂、酒精存储机构。本发明能够实现模仿人手自动整理FPC,提高生产效率;采用上料定位机构能够保障产品对位的稳定可靠无损伤;采用上下料直线电机搬送臂进行产品在加工工位之间的转移,稳定高效;采用CCD视觉精准定位,并且配合涂抹助焊剂机构,实现助焊剂的精密可控;设计有焊盘清洁机构能够自动完成焊盘清洁,自动化程度高;采用AOI检测/测高机构进行产品检测,精度高,检测速度快。

    一种手机屏表面等离子清洗设备的滚轮组

    公开(公告)号:CN220678831U

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202321702279.9

    申请日:2023-07-01

    Inventor: 杨辰 陈燕芳

    Abstract: 本实用新型公开了一种手机屏表面等离子清洗设备的滚轮组,包括底板和滚轮轴,所述底板顶端的两侧分别固定连接有第一竖板和第二竖板,所述滚轮轴的一端固定连接有第一轴承,所述滚轮轴的中部安装有滚轮组件。本实用新型使用滚轮组进行屏幕的说那个,滚轮组件两侧设置有挡边轮,从而更好对屏幕两侧进行限位,同时屏幕通过输送滚轮进行支撑,屏幕中部为悬空,从而更方便的进行下料。

    一种固晶站自动上下料桁架机械手

    公开(公告)号:CN219926092U

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202321551309.0

    申请日:2023-06-19

    Inventor: 杨辰 陈燕芳

    Abstract: 本实用新型公开了一种固晶站自动上下料桁架机械手,包括桁架,所述桁架的顶端滑动连接有移动座,所述移动座的正面固定连接有固定板,所述固定板的底端固定连接有基板,所述基板正面的两侧分别安装有第二气缸和第一气缸。本实用新型采用两个夹持机构来提高上下料效率的,在使用时,由于设置有第一夹持机构和第二夹持机构,能够同时完成两个固晶台上的上料和下料,同时进行大大提高了上下料效率。

    一种移印机旋转定位机构

    公开(公告)号:CN219927239U

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202321551260.9

    申请日:2023-06-19

    Inventor: 杨辰 陈燕芳

    Abstract: 本实用新型公开了一种移印机旋转定位机构,包括底板,所述底板顶端中部固定连接基台,所述基台转动连接有转动盘。本实用新型设置有可旋转式定位机构来提高移印机的工作效率的,在使用时,将零件安装在两个竖杆之间,然后启动电机,此时转动盘转动,当在将零件转动至左侧时,此时零件朝向移印机,然后启动气缸,气缸通过推板带动横板向左侧移动,使得零件靠近移印机完成加工,然后气缸带动推板回退,同时弹簧带动横杆复位,实现零件回位,完成一次加工,相比较现有的定位机构,本实用新型能够实现多工位上下料,自动旋转移动工件,并且能够向移印机所在方向推进零件,从而大大提高加工效率。

    一种用于半自动研磨机循环水箱

    公开(公告)号:CN219925699U

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202321702282.0

    申请日:2023-07-01

    Inventor: 杨辰 陈燕芳

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于半自动研磨机循环水箱,包括底板,所述底板的顶端安装有沉淀箱和冷却箱,所述沉淀箱的顶端与冷却箱之间通过溢流管连通,所述沉淀箱的内部设置有沉淀物收集盒,所述沉淀物收集盒的顶端设置有过滤网,所述沉淀箱的一侧安装有第一水泵。本实用新型通过沉淀箱和冷却箱来提高循环水箱的冷却效率的,使用时,高温并含有杂质的冷却水输送至沉淀箱中进行沉淀,使得杂质沉淀于沉淀箱的底部,过滤后的冷却水通过溢流管流动至冷却箱中进行冷却,本实用新型能够实现沉淀和冷却在不同的区域进行,从而避免杂质粘附在半导体制冷片表面,从而避免冷却效果下降,进而提高冷却效率。

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