Utility Model
- Patent Title: 一种用于半自动研磨机循环水箱
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Application No.: CN202321702282.0Application Date: 2023-07-01
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Publication No.: CN219925699UPublication Date: 2023-10-31
- Inventor: 杨辰 , 陈燕芳
- Applicant: 苏州杰乐辰电子科技有限公司
- Applicant Address: 江苏省苏州市工业园区苏州大道东409号苏州国际金融中心1幢1910室
- Assignee: 苏州杰乐辰电子科技有限公司
- Current Assignee: 苏州杰乐辰电子科技有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省苏州市工业园区苏州大道东409号苏州国际金融中心1幢1910室
- Main IPC: B24B55/03
- IPC: B24B55/03

Abstract:
本实用新型公开了一种用于半自动研磨机循环水箱,包括底板,所述底板的顶端安装有沉淀箱和冷却箱,所述沉淀箱的顶端与冷却箱之间通过溢流管连通,所述沉淀箱的内部设置有沉淀物收集盒,所述沉淀物收集盒的顶端设置有过滤网,所述沉淀箱的一侧安装有第一水泵。本实用新型通过沉淀箱和冷却箱来提高循环水箱的冷却效率的,使用时,高温并含有杂质的冷却水输送至沉淀箱中进行沉淀,使得杂质沉淀于沉淀箱的底部,过滤后的冷却水通过溢流管流动至冷却箱中进行冷却,本实用新型能够实现沉淀和冷却在不同的区域进行,从而避免杂质粘附在半导体制冷片表面,从而避免冷却效果下降,进而提高冷却效率。
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