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公开(公告)号:CN113990658B
公开(公告)日:2023-01-06
申请号:CN202111395507.8
申请日:2021-11-23
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种高剩磁比、低孔隙率六角铁氧体厚膜及其制备方法与应用,所述制备方法包括以下步骤:(1)将BaM粉末与有机载体混合、研磨,得到混合均匀的浆料;(2)将浆料通过丝网印刷法涂抹到Al2O3基片上,形成厚膜;(3)将上述厚膜与基片放置磁场中,进行加热充磁、排胶;(4)对充磁后的厚膜进行加压烧结,得到所述六角铁氧体厚膜。本发明通过优化有机载体、控制BaM粉末粒径、改进制膜工艺,制备得到高剩磁比、低孔隙率、高密度、高饱和磁化强度的六角铁氧体厚膜,可应用于自偏置环形器,且上述制备方法可实现低成本、大规模制备BaM厚膜,满足产业化需求。
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公开(公告)号:CN113990658A
公开(公告)日:2022-01-28
申请号:CN202111395507.8
申请日:2021-11-23
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种高剩磁比、低孔隙率六角铁氧体厚膜及其制备方法与应用,所述制备方法包括以下步骤:(1)将BaM粉末与有机载体混合、研磨,得到混合均匀的浆料;(2)将浆料通过丝网印刷法涂抹到Al2O3基片上,形成厚膜;(3)将上述厚膜与基片放置磁场中,进行加热充磁、排胶;(4)对充磁后的厚膜进行加压烧结,得到所述六角铁氧体厚膜。本发明通过优化有机载体、控制BaM粉末粒径、改进制膜工艺,制备得到高剩磁比、低孔隙率、高密度、高饱和磁化强度的六角铁氧体厚膜,可应用于自偏置环形器,且上述制备方法可实现低成本、大规模制备BaM厚膜,满足产业化需求。
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